Strahlhomogenisierung Thomas Büttner 12.11.2008 Scheinseminar Wintersemester 2008/2009 Optische Lithographie – Anwendungen, Grenzen, Perspektiven Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner 1 Gliederung 1. Anwendungen homogener Beleuchtung 2. Refraktive Homogenisatoren: 3. • Lichtmischstab • Wabenkondensor Design von diffraktiven Homogenisatoren: • Inverses Raytracing • Iterativer Fourier-Transformations-Algorithmus Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner 2 Homogene Beleuchtung • Homogene Beleuchtung ist in vielen Anwendungen erforderlich • Lichtquellen beleuchten i.a. nicht homogen, somit ist Homogenisierung des Lichtstrahls notwendig Gemessene Intensitätsverteilung eines Excimer Lasers, links Rohstrahl, mitte homogenisiertes Quadrat, rechts homogenisierte Linie (Optische Komponenten, R. Völkel, M. Zimmermann) Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner 3 Anwendungen homogener Beleuchtung (1) Beispiele von Anwendungen homogener Beleuchtung: • Maskenprojektionsverfahren z.B. bei der optischen Lithographie Ablauf optischer Lithographie (Anforderungen an die optische Lithographie bei der Chip-Herstellung, D. Ploß) • Projektionen z.B. Dia-, Film- und LCD-Projektor Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner 4 Anwendungen homogener Beleuchtung (2) • Messtechnik und Analytik z.B. 1. Particle Image Velocimetry (Bestimmen von GeschwindigkeitsVektorfeldern von Strömungen) Prinzip des PIV-Verfahrens (PIV-Verfahren, Deutsches Zentrum für Luft-und Raumfahrt) Phasenstarre Messung der Umströmung eines Propellers (PIV-Verfahren, Deutsches Zentrum für Luft-und Raumfahrt) 2. Mikroskopie Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner 5 Anwendungen homogener Beleuchtung (3) • Materialbearbeitung mit Laser zum Beispiel: − Herstellung von Mikrokavitäten in Tiefziehwerkzeugen Lochraster für Tiefziehwerkzeuge (homogene Beleuchtung der Lochmaske mit Homogenisator) (Optische Komponenten, R. Völkel, M. Zimmermann) − Biegen von dünnen Metallfolien − Herstellung von Tintenstrahldruckerdüsen Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner 6 Refraktive Homogenisatoren 1. Anwendung von homogener Beleuchtung 2. Refraktive Homogenisatoren: • Lichtmischstab • Wabenkondensor – – – – – – 3. Aufbau Funktionsweise Strahlenoptische Simulation Randbedingungen an das Design Wellenoptische Simulation Verringerung der Störung durch Vielstrahlinterferenz Diffraktiven Homogenisatoren: • Inversem Raytracing • Iterativer Fourier-Transformations Algorithmus Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner 7 Der Lichtmischstab Lichtstrahlen werden durch Vielfachreflexion • durchmischt • Intensitätsverteilung am Ende des Stabes homogen, unabhängig von Intensitätsverteilung der Beleuchtung ca. 0,5 - 1m Nachteil: Für Homogenisierung sehr langer Stab erforderlich ⇒ − große Intensitätsverluste durch Absorption − nicht für UV-Licht geeignet Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner 8 Strahlhomogenisierung mit dem Wabenkondensor Der Wabenkondensor: • am häufigsten angewendet zur Strahlhomogenisierung • Besteht aus 1-2 Linsen und 2 Mikrolinsenarrays Wabenkondensor aus 2 Mikrolinsenarrays und einer Linse (Optische Komponenten, R. Völkel, M. Zimmermann) Mikrolinsenarrays: • Periodische Anordnung von Mikrolinsen • Mittelpunktabstand der Mikrolinsen (Pitch): ca. 300µ m • Brennweiten der Mikrolinsen: mm – cm • Herstellung : lithographisch oder durch Abformen eines Masters Mikrolinsenarray (Optische Komponenten, R. Völkel, M. Zimmermann) Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner 9 Strahlhomogenisierung mit dem Wabenkondensor: Funktionsweise Aufbau für 2 identische Arrays: • Kondensor L1 erzeugt Parallelstrahlen • 1. Mikrolinsenarray bildet die Lichtquelle verkleinert in jede Subapertur des 2. MLA ab • Lichtquellenbilder maximal unscharf in der Ebene der Kamera Durchmesser B der Bilder der Lichtquelle in den Subaperturen des 2.MLA: B = D⋅ f4 ; D : Durchmesser LQ f3 Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner 10 Strahlhomogenisierung mit dem Wabenkondensor: Funktionsweise (2) Abbildender Strahlengang: δ f 2 = f3 f4 f4 • Jede Linse des 2.MLA bildet eine Mikrolinse des 1.MLA ab • Kollimator L4 überlagert die einzelnen Bilder der Mikrolinsen in der Zielebene Durchmesser δ des ausgeleuchteten Bereiches in der Zielebene: δ = p⋅ f4 ; p : Pitch der Mikrolinsen f3 Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner 11 Strahlenoptische Simulation mit Raytrace Nummerische Berechnung der Intensität mit Raytrace: • • • • • Lichtquelle modelliert durch viele stochastisch angeordnete Strahlen (Monte-Carlo-Simulation) Den Strahlen zugeteilte Lichtleistung berücksichtigt Intensitätsverteilung der Lichtquelle Strahldurchrechnung Aufteilung der Zielfläche in Detektorelemente Summe der Strahllichtleistungen pro Detektorelement liefert die Intensitätsverteilung Zielebene 92 109 103 98 99 105 9 1304 111 9 0 Aufteilung der Zielfläche in Detektorelemente Graphische Darstellung der Strahlenoptischen Simulation mit Raytrace Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner 12 Ergebnisse der strahlenoptischen Simulation Wabenkondensor bewirkt homogene Ausleuchtung der Zielebene : • (Wellen- und Strahlenoptische Simulation von Wabenkondensoren, N. Lindlein) Subaperturen des 2.MLA dürfen jeweils nur 1 Lichtquellenbild enthalten! • − Lichtquelle zu groß: − Dejustage der Mikrolinsenarrays zueinander: Folge: Neben der homogenen Intensitätsverteilung entstehen Seitenbänder Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner (Wellen- und Strahlenoptische Simulation von Wabenkondensoren, N. Lindlein) 13 Vergleich strahlenoptische Simulation mit Experiment Ergebnis aus strahlenoptischer Simulation: Ergebnisse aus Experimenten: • Beugung an den Mikrolinsen: • bei kleiner Lichtquelle Überstruktur durch Interferenzeffekte: Periodische Anordnung der Mikrolinsen führt zu konstruktiver und destruktiver Interferenz wie bei einem Gitter Abbild der LED Überstruktur durch Interferenz Überstrukturen in der Zielebene leichte Dejustage der LED in zRichtung Wellennatur des Lichts muss berücksichtigt werden! Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner 14 Wellenoptische Simulation mit Raytrace Vorgehen: • Beschreibung des Lichts über komplexe Amplitude u ( x, y, z ) = u ( x, y, z ) ⋅ eiϕ ( x , y , z ) ; Zeitabhängiger Anteil separiert • Freiraumausbreitung mit Planwellenmethode • Mikrolinsenarrays werden mit der „Thin-Element“- Näherung berechnet • Für ausgedehnte Lichtquellen: Planwellen mit verschiedenen Ausbreitungsrichtungen werden jeweils kohärent durchgerechnet • In der Zielebene werden die Planwellen inkohärent überlagert Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner Jeder Punkt der LQ erzeugt eine ebene Welle mit unterschiedlicher Ausbreitungsrichtung hinter der Kollimator Linse 15 Wellenoptische Simulation mit Raytrace (2) Wellenoptische Simulation mit Raytrace: Planwellenmethode Bestimmen der Amplitudenverteilung u ( x, y, z1 ) in Ebene z = z1 aus bekannter Verteilung u ( x, y,0) durch Überlagern ebener Wellen mit Amplituden u0 ( k x , k y ) u ( x, y, z1 ) = ∫ dk1 ∫ dk 2 u0 (k x , k y ) e i k 2 − k x 2 − k y 2 ⋅ z1 eik x x e ik y y u0 (k x , k y ) = F{u0 ( x, y )} z=0 Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner z = z1 16 Wellenoptische Simulation mit Raytrace (3) „Thin-Element“ - Methode n1 n2 Phasensprung um: 2π ⋅ OPD ϕ ( x, y ) = λ Freiraumausbreitung mit Planwellenmethode n2 n1 Freiraumausbreitung mit Planwellenmethode u f ( x , y , z 0 ) = u i ( x , y , z 0 ) ⋅ e iϕ ( x , y ) z = z0 „Thin-Element“-Methode ist nur in paraxialer Näherung gültig: geneigte Wellen erhalten gleiche Phasenmodulation Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner 17 Ergebnisse der wellenoptischen Simulation (1) Zur Vereinfachung wird nur eine laterale Komponente betrachtet: • Intensitätsverteilung in Zielebene Punktlichtquelle: Zentraler Bereich durch periodische Anordnung der Linsen kommt es zu diskreten Beugungsmaxima unter diskreten Winkeln im Strahlenoptisch vorhergesagten Bereich sinϕ max = m • λ P ; P : Pitch Punktlichtquelle zur optischen Achse verschoben − Ebene Wellen treffen unter einem Winkel auf die periodisch angeordneten Linsen − Beugungsmaxima treten unter anderen Winkeln auf sinϕ max = sin ϕin + m λ P Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner (Wellen- und Strahlenoptische Simulation von Wabenkondensoren, N. Lindlein) 18 Ergebnisse der wellenoptischen Simulation (2) Interferenzbilder ausgedehnter Lichtquellen: − jeder Punkt der Lichtquelle erzeugt ein lateral verschobenes Beugungsbild − Beugungsbilder überlagern sich inkohärent Homogenisierung hängt ab von Intensitätsverteilung in der Zielebene für ϕ in ϕin,max − ϕin,min ϕin = ϕ Gitter λ/ p / ϕGitter = 1,5 (links) und ϕin / ϕGitter = 1 (rechts) (Wellen- und Strahlenoptische Simulation von Wabenkondensoren, N. Lindlein) Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner 19 Ergebnisse der wellenoptischen Simulation (3) ϕin Für große Verhältnisse ϕ Gitter d.h. große Lichtquellen wird die Verteilung immer homogener: Intensitätsverteilung in der Zielebene für ϕin / ϕGitter = 82 (links) und ϕ in / ϕ Gitter = 82,5 (rechts) (Wellen- und Strahlenoptische Simulation von Wabenkondensoren, N. Lindlein) Um Gittereffekte zu minimieren muss die Lichtquelle möglichst groß sein und inkohärent abstrahlen! Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner 20 Verringerung der Auswirkungen von Vielstrahlinterferenz • Oft wird mit einer kohärenten bzw. partiell kohärenten Lichquelle beleuchtet (z.B. Laser) • Interferenzeffekte mindern die Qualität der Homogenisierung Verringerung der Störungen durch Vielstrahlinterferenz: • Jede Mikrolinse erhält eine zusätzliche stochastische Phase zwischen 0 und 2π ⇒Periodizität der Anordnung wird zerstört Mikrolinsen sitzen auf Plateaus mit stochastischer Höhe Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner Phase des MLAs 21 Verringerung der Auswirkungen von Vielstrahlinterferenz (2) • Rotierende Streuscheibe: − Licht wird kohärent gestreut − Interferenzen in Zielebene ändern sich zeitlich durch Rotation der Scheibe − Licht durch zeitliche Mittelung in Bearbeitungs-/Bildebene Streuscheibe hergestellt durch Sandstrahlen quasi inkohärent Nachteil: Verringerung der Intensität durch Streuung => Verringerung der Streuverluste durch mikrotechnisch hergestellte Streuscheiben Mikrotechnisch gefertigte Streuscheibe: statistische Anordnung unterschiedlicher konkaver Mikrolinsen (Optische Komponenten, R. Völkel, M. Zimmermann) Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner 22 Verringerung der Auswirkungen von Vielstrahlinterferenz (3) • Einsatz von Stufenspiegeln: Kohärenzlänge lc Verhindern kohärenter Überlagerung der Teilstrahlen: λ0 2 2 d > lc = ; ∆λ ∆λ ! spektrale Breite Stufenhöhe Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner d 23 Diffraktive Elemente 1. Anwendung von homogener Beleuchtung 2. Refraktive Homogenisatoren: 3. • Lichtmischstab • Wabenkondensor Diffraktive Homogenisatoren: • Was sind diffraktive optische Elemente? • Inverses Raytracing • Iterativer Fourier-Transformations-Algorithmus Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner 24 Diffraktive Elemente Diffraktive Elemente formen die Intensitätsverteilung in der Zielebene durch Phasen-und Amplitudenmodulation aufgrund von Interferenzeffekten um Intensität im Fernfeld Beispiele: Intensity - 2DSections (Zeile 0) Amplitudengitter: 2e+002 1,5e+002 1e+002 ∆s 50 -2,5 Phasengitter (Ronchi): -2 -1,5 -1 -0,5 0 0,5 1 1,5 2 1 1,5 2 Intensity - 2DSections (Zeile 0) OPD = λ / 2 3,5e+002 3e+002 n1 n0 2,5e+002 2e+002 1,5e+002 1e+002 50 -2,5 Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner -2 -1,5 -1 -0,5 0 0,5 25 Einfluss der quantisierten Phase auf Homogenisierung Quantisierung der Phasenmodulation: • Bedingt durch die Herstellungsmethode stehen in jedem Rasterpunkt N = 2 n gleichhohe Phasenstufen zur Verfügung • * Die Phase ϕ ( x, y ) muss somit durch die Phase ϕ ( x, y ) angenähert werden • Quantisierung der Phase verringert Intensität in gewünschter 1.Beugungsordnung Maximaler Anteil der Gesamtintensität: 1 N η = sinc 2 Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner 26 Designen von diffraktiven Elementen durch inverses Raytracen Inverses Raytracing: Umverteilen der Strahlen in der Zielebene mit Abbildung u , v → x, y , sodass I ( x (u )) der gewünschten Intensitätsverteilung entspricht. Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner 27 Design von diffraktiven Elementen durch inverses Raytracen (2) Bestimmung der Abbildung Ausgangspunkt: Energieerhaltung P (u , v) = I 0 (u ) du dv = I ( x (u )) dx dy Gesamtintensität der Zielfläche: ∫∫ I 0 (u ) du dv = ∫ ∫ I ( x (u )) dx dy du dv dx dy Flächenelemente transformieren sich mit Funktionaldeterminante, man erhält die Abbildung aus Integration: Auf das infinitesimale Flächenelement dudv treffende Leistung wird verlustfrei in die Zielebene auf das Flächenelement dxdy abgebildet I (u ) ∂x (u ) det = 0 ∂u I (u ( x )) Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner 28 Design von diffraktiven Elementen durch inverses Raytracen (3) Beispiele einfacher Abbildungen: − homogen beleuchtete Linie, Länge l1 abgebildet auf homogene Linie, Länge Abbildung: x(u ) = − Linie l2 u; l1 l2 x u l1 mit Gauß-förmiger Intensitätsverteilung abgebildet auf homogene Linie l2 Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner 29 Design von diffraktiven Elementen durch inverses Raytracen (4) Bestimmen der nötigen Phase ψ (u, v) hinter dem optischen Element aus der Abbildung: Betrachte Fokussierung einer ebenen Welle: • Lichtstrahlen stehen senkrecht auf Flächen konstanter Phase x (u ) − u ∇ Ψ (u , v) = z0 • Phasenmodulation durch diffraktives Element ϕ (u , v) berechnet sich aus: ϕ (u , v) = Ψ (u , v) − Ψ0 (u , v) Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner 30 Design von diffraktiven Elementen durch inverses Raytracen (5) Einige durch Inverses Raytacing designte optische Elemente: Abbildendes Element • Intensitätsverteilung in Zielebene Abbildung einer Gauß-förmigen Intensitätsverteilung auf eine homogene Linie • Homogene Intensitätsverteilung wird mit runder Apertur umgeformt • Komplexe Formen können durch Superposition einfacher Abbildungen erzeugt werden Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner 31 Der Iterative Fourier-Transformations Algorithmus Allgemein: Der IFTA wurde von Lesem (71) und Gerchberg (72) für ähnliche Probleme entwickelt • Iterativer Algorithmus zum Bestimmen von Funktionen die sowohl selbst als auch ihre Fourier-Transformierten Bedingungen erfüllen sollen • Es wird zwischen Orts- und Fourierraum gewechselt und jeweils die Funktionen mit möglichst kleiner Veränderung den Bedingungen angepasst u F {} u Bedingungen im Ortsraum anpassen Bedingungen im Frequenzraum anpassen u′ −1 F {} Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner u′ 32 Der Iterative Fourier-Transformations-Algorithmus (2) Anwendung des IFTA zum Designen eines diffraktiven Elements: Mit paraxialer Näherung ergibt sich für das Fernfeld der Intensitätsverteilung in z = z1 Ebene : u ( x, y, z1 ) ∝ F{u ( x, y,0)} = u0 (α , β ) (Fraunhofer-Beugung) Bedingungen an u ( x, y ,0) und u0 (α , β ) : • 2 u ( x, y,0) entspricht gegebener Intensitätsverteilung • u0 (α , β ) = C (α , β ) ; C (α , β ) gewünschte Intensitätsverteilung in der Zielebene 2 2 2 an ψ ( x, y ) und ψ (α , β ) sind keine Bedingungen gestellt Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner 33 Der Iterative Fourier-Transformations-Algorithmus (3) Bestimmen der nötigen komplexen Amplitudenverteilung hinter dem diffraktiven Element: uk′ ( x, y ) = uk′ ( x, y ) ⋅ eiψ k′ ( x , y ) Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner 34 Der Iterative Fourier-Transformations-Algorithmus (3) Bestimmen der nötigen komplexen Amplitudenverteilung hinter dem diffraktiven Element: uk ( x, y ) = u0 ( x, y ) ⋅ eiψ k′ ( x , y ) Bedingungen im Ortsraum anpassen: • u′k ( x, y ) durch u0 ( x, y ) ersetzen • ψ k′ (x, y) beibehalten uk′ ( x, y ) = uk′ ( x, y ) ⋅ eiψ k′ ( x , y ) Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner 35 Der Iterative Fourier-Transformations-Algorithmus (3) Bestimmen der nötigen komplexen Amplitudenverteilung hinter dem diffraktiven Element: u k ( x, y ) = u 0 ( x, y ) ⋅ e iψ k′ ( x , y ) F { u ( x, y ) } uk (α , β ) = uk (α , β ) ⋅ eiψ k (α ,β ) Bedingungen im Ortsraum anpassen: • u′k ( x, y ) durch u0 ( x, y ) ersetzen • ψ k′ (x, y) beibehalten uk′ ( x, y ) = uk′ ( x, y ) ⋅ eiψ k′ ( x , y ) Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner 36 Der Iterative Fourier-Transformations-Algorithmus (3) Bestimmen der nötigen komplexen Amplitudenverteilung hinter dem diffraktiven Element: u k ( x, y ) = u 0 ( x, y ) ⋅ e iψ k′ ( x , y ) F { u ( x, y ) } Bedingungen im Ortsraum anpassen: • u′k ( x, y ) durch u0 ( x, y ) uk (α , β ) = uk (α , β ) ⋅ eiψ k (α ,β ) Bedingungen im Zielebene anpassen : • ersetzen ersetzen • ψ k′ (x, y) beibehalten uk (α , β ) durch C(α , β ) • ψ k (α , β ) beibehalten uk′ ( x, y ) = uk′ ( x, y ) ⋅ eiψ k′ ( x , y ) uk′ (α , β ) = C (α , β ) ⋅ eiψ k (α ,β ) Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner 37 Der Iterative Fourier-Transformations-Algorithmus (3) Bestimmen der nötigen komplexen Amplitudenverteilung hinter dem diffraktiven Element: u k ( x, y ) = u 0 ( x, y ) ⋅ e iψ k′ ( x , y ) F { u ( x, y ) } Bedingungen im Ortsraum anpassen: • uk (α , β ) = uk (α , β ) ⋅ eiψ k (α ,β ) Bedingungen im Zielebene anpassen : u′k ( x, y ) durch u0 ( x, y ) • ersetzen ersetzen • ψ k′ (x, y) beibehalten uk′ ( x, y ) = uk′ ( x, y ) ⋅ eiψ k′ ( x , y ) uk (α , β ) durch C(α , β ) • ψ k (α , β ) beibehalten F −1{ u ′(α , β ) } uk′ +1 ( x, y ) = uk′ +1 ( x, y ) ⋅ eiψ k′ +1 ( x , y ) Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner uk′ (α , β ) = C (α , β ) ⋅ eiψ k (α ,β ) 38 Der Iterative Fourier-Transformations-Algorithmus (4) 1-te Iteration: • • u1 ( x, y ) wird gemäß der geg. Intensitätsverteilung gewählt u1 ( x, y ) = u0 ( x, y ) ψ 1 ( x, y ) beliebig Abbruch der Iteration: Mittlerer quadratischer Fehler kleiner als ε 2 − d α d β | U ( α , β ) C ( α , β ) | k ∫ ∫ ∫ dα ∫ dβ C (α , β ) 2 <ε Konvergenz: Mit jeder Iteration wird der mittlere Quadratische Fehler der Funktionen kleiner oder bleibt gleich! (dies kann für Spezialfälle gezeigt werden) Nach Abbruch der Iteration kann mit ψ K ( x, y ) die nötige Phasenmodulation φ ( x, y ) der Phase ψ 0 ( x, y ) für homogene Ausleuchtung bestimmt werden. φ ( x, y ) = ψ K ( x, y ) − ψ 0 ( x, y ) Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner 39 Simulation des IFTA Y-axis (mm) -0,2 0 0,2 0,4 0,6 0,8 1 Intensity - ColorPlot -1 -0,8 -0,6 -0,4 Intensitätsverteilung der Lichtquelle -1 -0,8 -0,6 -0,4 -0,2 0 0,2 0,4 0,6 0,8 1 X-axis (mm) RAYTRACE Copyright © 2008 University Erlangen-Nuremberg Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner 40 Y-axis (mm) -0,025 -0,02 -0,015 -0,01 -0,005 0 0,005 0,01 0,015 0,02 0,025 Simulation des IFTA (2) WAVESIM-Intensity - ColorPlot Intensitätsverteilung in Zielebene nach 1 Iteration -0,025 -0,02 -0,015 -0,01 -0,005 0 0,005 0,01 0,015 0,02 0,025 X-axis (mm) RAYTRACE Copyright © 2008 University Erlangen-Nuremberg Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner 41 Y-axis (mm) -0,025 -0,02 -0,015 -0,01 -0,005 0 0,005 0,01 0,015 0,02 0,025 Simulation des IFTA (3) WAVESIM-Intensity - ColorPlot Intensitätsverteilung in Zielebene nach 5 Iterationen -0,025 -0,02 -0,015 -0,01 -0,005 0 0,005 0,01 0,015 0,02 0,025 X-axis (mm) RAYTRACE Copyright © 2008 University Erlangen-Nuremberg Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner 42 Y-axis (mm) -0,025 -0,02 -0,015 -0,01 -0,005 0 0,005 0,01 0,015 0,02 0,025 Simulation des IFTA (4) WAVESIM-Intensity - ColorPlot Intensitätsverteilung in Zielebene nach 15 Iterationen -0,025 -0,02 -0,015 -0,01 -0,005 0 0,005 0,01 0,015 0,02 0,025 X-axis (mm) RAYTRACE Copyright © 2008 University Erlangen-Nuremberg Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner 43 Y-axis (mm) -0,025 -0,02 -0,015 -0,01 -0,005 0 0,005 0,01 0,015 0,02 0,025 Simulation des IFTA (5) WAVESIM-Intensity - ColorPlot Intensitätsverteilung in Zielebene nach 25 Iterationen -0,025 -0,02 -0,015 -0,01 -0,005 0 0,005 0,01 0,015 0,02 0,025 X-axis (mm) RAYTRACE Copyright © 2008 University Erlangen-Nuremberg Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner 44 WAVESIM-Phase - ColorPlot Phasenfunktion des Diffraktiven Elements -0,025 -0,02 -0,015 -0,01 -0,005 0 0,005 0,01 0,015 0,02 0,025 Simulation des IFTA (6) -0,025 -0,02 -0,015 -0,01 -0,005 0 0,005 0,01 0,015 0,02 0,025 RAYTRACE Copyright © 2008 University Erlangen-Nuremberg Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner 45 Zusammenfassung Strahlhomogenisierung in vielen Anwendungen notwendig Wabenkondensor: • Vorteile: Inkohärente Beleuchtung - Unabhängig von Intensitätsverteilung die durch die Lichtquellengegeben ist Unabhängig von Wellenlänge der Beleuchtung Im Vergleich zum Lichtmischstab kompakte Bauweise und geringe Absorptionsverluste Periodische Anordnung führt zu Interferenzeffekten • Nachteil: - Diffraktive Elemente: • • Vorteil: Nachteile: - beliebige Intensitätsverteilungen erzeugbar Abstimmung auf Lichtquelle, Aufbau des Systems und Wellenlänge notwendig teure Herstellung Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner Kohärente Beleuchtung 46 Vielen Dank! Optische Lithographie: Anwendungen, Grenzen und Perspektiven Strahlhomogenisierung, Thomas Büttner 47