FACH HOCH SCHULE JENA UNIVERSITY OF APPLIED SCIENCES Mechanische Effekte und Sensoren • Piezoresistiver Effekt: Dehnungsmessstreifen (DMS) – Grundlagen – Metallische DMS – Halbleiter (Si) - DMS • Kraftmessung mit DMS • Druckmessung mit DMS – Drucksensoren mit Metall-DMS (Rosette) – Integrierte piezoresistive Si-Drucksensoren • Kapazitive Drucksensoren • Mikromechanische Beschleunigungs-/Vibrations-Sensoren • Piezoelektrische Sensoren – Piezoelektrischer Effekt – Piezoelektrische Druck/Kraft-Sensoren V2-1 FACH HOCH SCHULE JENA UNIVERSITY OF APPLIED SCIENCES Grundlagen des piezoresistiven Effekts V2-2 Widerstand eines elektrischen Leiters: R = ρ⋅l/A (1) ρ - spezifischer Widerstand des Materials A = π⋅r² - Querschnitt eines Drahtes von Radius r und Länge l Eine Dehnung Δl/l = ε bewirkt eine Widerstandsänderung ΔR (dieser Effekt wird im Bereich der elastischen Verformung des Materials genutzt). Berechnung des Effektes aus totalem Differential von (1): ΔR = δR/δρ ⋅ Δρ + δR/δl ⋅ Δl + δR/δr ⋅ Δr (2) Bildung der partiellen Differentiale und Division durch R liefert relative Widerstandsänderung ΔR/R des Drahtes: ΔR/R = Δρ/ρ + Δl/l – 2Δr/r (3) Mit Δl/l = ε (Dehnung) und μ = -(Δr/r)/(Δl/l ) (µ - Poisson-Zahl) ist ΔR/R = [ (Δρ/ρ)/ε) +1 + 2µ ] ⋅ ε = k ⋅ ε (4) k – Dehnungsempfindlichkeit, „Gauge“-Faktor des Dehnungsmessstreifens (DMS) Poisson-Zahl (Querkontraktionszahl): μ = 0,2 ... 0,5 μ = 0,5 bei ΔV = 0, d.h., wenn das Volumen bei Dehnung konstant bleibt. FACH HOCH SCHULE JENA Dehnungsmessstreifen (DMS) V2-3 UNIVERSITY OF APPLIED SCIENCES Verformung eines Draht-Leiters bei Dehnung Aufbau eines DMS FACH HOCH SCHULE JENA Metallische DMS-Widerstände (I) V2-4 UNIVERSITY OF APPLIED SCIENCES Merkmale, insbesondere gegenüber Halbleiter- (Si)-DMS: • • • • • geringe Temperaturabhängigkeit von K (ca. 10-5/K) hohe Genauigkeit k = 2...6, da sich der spezifische Widerstand ρ von Metallen bei Dehnung kaum ändert geringe Empfindlichkeit geringer piezoresistiver Effekt, d. h., sehr kleine Widerstandsänderung Beispiel Konstantan-DMS: k = 2 (für Δρ = 0 und ΔV = 0 Æ μ = 0,5) d.h., Widerstandsänderung im Wesentlichen durch Geometrieeffekte (Längenänderung und Querkontraktion) hervorgerufen • Standard-Ausführung: Folien-DMS • Draht-DMS - nur noch bei Hochtemperatur.-Anwendungen • Dünnfilm-DMS - direkt auf Verformkörper aufgedampft Folien-DMS: • mäanderförmig strukturierte Folien, ca. 4μm dick; hergestellt mit Ätztechniken aus Metallfolie, die zwischen eine Träger- und eine Abdeckkunststofffolie eingeschweißt werden. • wird auf Messobjekt (z.B. Biegebalken für Kraft oder Beschleunigungs-Messungen aufgeklebt (Kriech- bzw. Hysteresis-Probleme) FACH HOCH SCHULE JENA Metallische DMS-Widerstände (II) UNIVERSITY OF APPLIED SCIENCES V2-5 DMS-Fläche: 1 mm² bis ca. 20 x 5 mm² Zulässige Dehnung: εmax = ± 4·10-3 (bei relativem Linearitätsfehler Fr ≤ 0,1%) • Bei Überlastung plastische Verformung: Auswechslung bzw. Neukalibrierung erforderlich • Dehnungsmessbereich 10-6 ... 10-3 liefert wegen geringer Empfindlichkeit (k-Faktor 2 ... 6) nur kleine Widerstandsänderungen: i.a. Auswertung in Brückenschaltungen Temperaturbereich: Standard - 50 ... +200 °C; Hochtemperatur-DMS (Pt-Draht) bis ca. 1000 °C Nennwiderstände: 120 / 300 / 600 Ω zulässige Strombelastung: 20 mA bei 300 Ω Konstantan-DMS: • thermischer Ausdehnungs-Koeffizient αKo = 12 μm/m/K, etwa der von Stahl und Beton Æ bei solchen Messobjekt-Materialien ist für Konstantan-DMS keine TemperaturKompensation erforderlich • außerdem ist T-Abhängigkeit des k-Faktors relativ klein: TK(kKo) ≈ -3·10-5 /K FACH HOCH SCHULE JENA Halbleiter-DMS-Widerstände UNIVERSITY OF APPLIED SCIENCES V2-6 Dehnungsempfindlichkeit k von dotierten Silizium-DMS-Widerständen ist wesentlich größer als bei metallischen DMS. k hängt von Dotierung und Kristallorientierung ab; z.B. typischer Wert k = 120, p-Si: k-Werte bis 200 (positiv !) n-Si: k-Werte bis -100 (negativ !) allerdings ist der Bereich der elastischen Verformbarkeit des spröden Si <10-3 Ursache für hohe k-Werte: Änderung des spezifischen Widerstandes ρ durch mechanische Spannung σ in Halbleitern; bei Dehnung ändern sich Bandabstand und Dichte der Ladungsträger im Halbleiter Æ Piezowiderstandseffekt (piezoresistiver Effekt) Δρ/ρ = Π ⋅ σ • Π - piezoresistiver Koeffizient, i.a. symmetrischer 6x6 Tensor mit 21 Komponenten; im kubischen Si-Kristall nur 3 unabhängige Komponenten Π11, Π12, Π44 • Werte hängen vom Leitungstyp und Dotierungskonzentration ab • Man unterscheidet longitudinalen u. transversalen Piezowiderstandseffekt (Stromfluss parallel bzw. senkrecht zur mechanischen Spannung) mit ΠL u. ΠT (berechnen sich aus Π11 ... und sind dementsprechend abhängig von der Kristallorientierung Si-DMS meist nicht diskreter Sensor, sondern im Si-Chip monolithisch integriert FACH HOCH SCHULE JENA Kraftmessung mit DMS UNIVERSITY OF APPLIED SCIENCES Hooke`sches Gesetz für elastische Dehnung ε eines Stabes mit Querschnitt A: σ = F/A = ε·E F - Kraft, E - Elastizitätsmodul des Materials (EStahl = 2 ·105 N/mm²) Kraftmessdose mit Hohlzylinder: 2 DMS in Kraftrichtung und 2 DMS senkrecht dazu auf Hohlzylinder als elastischer Verformkörper aufgeklebt, der durch die Messkraft F gestaucht wird. DMS in Kraftrichtung erfahren Längsdehnung (Stauchung) gemäß Hooke`schem Gesetz: εl = F / A / E DMS senkrecht zur Kraftrichtung erfahren eine kleinere Querdehnung: εq = -μ · F / A / E (Poissonzahl µ: 0,2 ≤ μ ≤ 0,5) Widerstand der DMS in Kraftrichtung wird bei Stauchung verringert, der dazu senkrechten DMS entsprechend vergrößert. V2-7 FACH HOCH SCHULE JENA Anordnungen zur Kraftmessung V2-8 UNIVERSITY OF APPLIED SCIENCES Kraftmessdose mit DehnungsMessstreifen Dehnungsmessung am Biegebalken • Anordnung der 4 DMS so in einer Brückenschaltung angeordnet, dass maximale Empfindlichkeit erreicht wird. • Gleichzeitig erreicht man bei geeigneter Dimensionierung eine Kompensation der Temp.Abhängigkeit der DMS (DifferenzprinzipUnterdrückung von Gleichtaktstörungen) DMS auf Oberseite gedehnt, auf Unterseite gestaucht Anwendung Wägetechnik (siehe Praktikumversuch ) FACH HOCH SCHULE JENA UNIVERSITY OF APPLIED SCIENCES Drucksensoren mit Metall-DMS-Rosette (I) V2-9 • Verformung einer Membran durch Differenz- oder Absolutdruck • Kreisförmige Membran wird bei Durchbiegung in der Mitte gedehnt und am Rande gestaucht (an Oberseite, an Unterseite umgekehrt) - DMS-Rosette aus 4 DMS - R1 und R4 in der Mitte der Membran (werden gedehnt) - R2 und R3 am Rande der Membran (werden gestaucht) Gehäuse mit Membran zum Messen von Differenzdrucken p1 - p2 > 0 FACH HOCH SCHULE JENA UNIVERSITY OF APPLIED SCIENCES Drucksensoren mit Metall-DMS-Rosette (II) V2-10 • R1 ... R4 als Wheatstone-Messbrücke geschaltet. • Durch geeignete Materialauswahl und Dimensionierung kann der Temperaturgang an den thermischen Ausdehnungs-Koeffizienten von Stahl (αSt = 11·10-6/K) angepasst werden. • Folien-DMS-Rosette auf Membran geklebt, oder als Dünnfilm-DMS aufgedampft. • Metall-DMS genauer als Si-Drucksensoren, aber nicht so kostengünstig herstellbar. FACH HOCH SCHULE JENA Druckmessung mit Dehnmessstreifen UNIVERSITY OF APPLIED SCIENCES V2-11 a) Aufteilung der 4 DMS einer Rosette auf der Membran R1, R4 – Dehnung R2, R3 – Stauchung a) b) Foto: DMS zusammen mit Widerständen zur Temperaturkompensation und Brückenabgleich c) Rosetten-DMS der Fa. Hottinger Baldwin Messtechnik b) c) zusätzlicher 5. Anschlussdraht an Rosette dient zum Nullabgleich der Vollbrücke durch veränderlichen Widerstand FACH HOCH SCHULE JENA UNIVERSITY OF APPLIED SCIENCES Integrierte piezoresistive Si-Drucksensoren (I) V2-12 • Monolithisch integrierte Drucksensoren haben große praktische Bedeutung erlangt, seit 20 Jahren auf dem Markt. • Massenproduktion: preiswert und miniaturisierbar (bis < 1mm ø) • 1 mbar ... 1000 bar (Genauigkeit 0,5 %), Messbereiche je nach Anwendung • Membran in Si-Substrat (n-Si) geätzt (Kreis- oder Ringmembranen mit einigen μm Dicke), durch Eindiffundieren von Bor oder lonen-Implantation werden an den entsprechenden Stellen DMS-Widerstände aus p-Si in der Membran erzeugt, die bei Durchbiegung gedehnt bzw. gestaucht werden (konkrete Anordnung hängt von Kristallorientierung ab) Æ in (111)-Kristall-Fläche ist k-Faktor richtungs-unabhängig FACH HOCH SCHULE JENA UNIVERSITY OF APPLIED SCIENCES Integrierte piezoresistive Si-Drucksensoren (II) V2-13 • 4 DMS mit gleichen Eigenschaften für Brückenschaltung herstellbar • Nachteil der großen T-Abhängigkeit (für Si-DMS α = 3·10-3 /K) ihrer Dehnungsempfindlichkeit k = k0( 1 + α · ΔT) wird durch zusätzliche Eindiffusion von Widerständen zur TemperaturMessung und integrierten Signalverarbeitung (Verstärker mit temperaturgesteuertem Verstärkungsfaktor zum Messen der BrückenDiagonalspannung) wesentlich verringert. • Außerdem: Integration von Widerständen zum Nullpunkt-Abgleich und zum Empfindlichkeits-Abgleich (Ausgleich von Fertigungstoleranzen) • Durch Integration von Oszillator-Schaltungen auf dem Si-Chip können frequenzanaloge Drucksensoren realisiert werden • Technische Massenanwendungen, z.B. Medizintechnik: „in-vivo“-Blutdruckmessungen FACH HOCH SCHULE JENA UNIVERSITY OF APPLIED SCIENCES Membran eines piezoresistiven Druckaufnehmers Siliziumchip mit eindotierten Widerständen R1 bis R4 R auf Oberseite; mit zunehmendem Druck: R1, R4 - Stauchung, R2, R3 - Dehnung Schnitt durch den unbelasteten Chip Schnitt durch den belasteten Chip mit gedehnten (+) und gestauchten (-) Bereichen Schaltung der eindotierten Widerstände: R1, R4 - Stauchung, R2, R3 - Dehnung 1 – 4 Eingang Brückenbetriebsspannung, 2 – 3 Ausgang Messspannung V2-14 FACH HOCH SCHULE JENA Kapazitive Drucksensoren (I) V2-15 UNIVERSITY OF APPLIED SCIENCES Kapazität C eines Plattenkondensators: C = ε0 · εr · A / d ε0 - Dielektrizitäts-Konstante des Vakuum (Permittivität), ε0 = 8,854·10-12 As/Vm εr - relative Dielektrizitäts-Konstante; A - Plattenfläche; d - Plattenabstand Änderungen von εr, A bzw. d sind sensorisch nutzbar; bei Drucksensoren i.a. Membran-Durchbiegung, d.h., Δd als Sensoreffekt In Si-Technik sind besonders kleine kapazitive Sensoren realisierbar: Geätzte Si-Membran bildet eine Kondensatorplatte, Metallschicht auf einer Glasplatte die andere Verbindung Glas-Si: anodisches Bonden Silizium Glasplatte Metallisierung FACH HOCH SCHULE JENA Kapazitive Drucksensoren (II) V2-16 UNIVERSITY OF APPLIED SCIENCES n+-Si Integrierter Si-Drucksensor: Si-Mikro-Aufbau- und Verbindungstechnik (AVT - Bonden) p+-Si n+-Si und Kontaktschichten bilden Kondensator p+-Si Hohlraum Membran • Sehr kleine Kapazitätsänderungen sind hier zu messen, (z.B. Empfindlichkeit von 10-16 Farad/mbar) • Deshalb: Signalverarbeitung mit RC-Oszillator • Drucksensor bildet die variable Kapazität, direkt auf dem Si-Chip integriert. • Weitere Verarbeitungselektronik führt zum frequenzanalogen Ausgang. FACH HOCH SCHULE JENA UNIVERSITY OF APPLIED SCIENCES Mikromechanische SiBeschleunigungs-/Vibrationssensoren V2-17 Beschleunigungsmessung kann auf Kraftmessung zurückgeführt werden: F=m·a Kraft F = Masse m x Beschleunigung a Im einfachsten Fall wird in ein Si-Substrat eine bewegliche Zunge als träge Masse geätzt: • ca. 200 μm dick, • z.T. noch mit Zusatzmasse, z.B. Goldschicht, belegt • durch einen dünnen Steg (5 ... 15 μm dick) mit dem Substrat verbunden Biegebalken-Prinzip: Bei Beschleunigung des Sensors senkrecht zur Oberfläche verbiegt die träge Masse den Steg wie ein einseitig eingespannter Balken. Messung der Verbiegung: • in den Steg eindotierte Si-Piezowiderstände (DMS) • kapazitiv (Änderung des Abstandes zwischen leitender Zunge und einer darüber liegenden Metallplatte) • piezoelektrisch oder • optisch (Messung der Auslenkung mit Glasfaser - siehe Vorlesung 5 FACH HOCH SCHULE JENA UNIVERSITY OF APPLIED SCIENCES Praktische Realisierung Anwendungen • Empfindlichkeit und Bandbreite ist durch geeignete Geometrie in weiten Grenzen auslegbar • Biegebalken anisotrop aufbauen, um Querempfindlichkeit auf Beschleunigungen senkrecht zur Messrichtung zu unterdrücken. Typische Daten: Gewicht 0,02 g Abmessungen 2 x 3 x 0,6 mm3 Messbereiche von 0,1 ... 1000 m/s² Resonanzfrequenzen einige 100 Hz Beispiele für Einsatzgebiete: • • • • • KFZ (ABS- und Airbag-Sicherheitssysteme) Waschmaschinen (Steuerung von Spül- u. Schleudervorgang) Raumfahrt (hochempfindliche Sensoren bis 10-8 g Mikrogravitation) Militärtechnik (sog. g-Schalter in Raketen und Munition) Navigationssysteme, Maschinen- u. Anlagendiagnose V2-18 FACH HOCH SCHULE JENA UNIVERSITY OF APPLIED SCIENCES Beschleunigungssensor mit vier Biegebalken V2-19 Seismische Masse ist über vier dünne Stege mit dem Si-Rahmen (Substrat) verbunden, dort implantierte Piezowiderstände, in Brückenschaltung angeordnet, so dass sich bei Beschleunigung jeweils zwei Widerstände vergrößern und zwei andere verringern (Auswertung in Wheatstone-Brücke). Beschleunigungs-Messbereiche: 5 ... 100 g (g = 9,81 m/s² = Erdbeschleunigung) Resonanzfrequenzen: 600 Hz (bei 5 g Messbereich) ... 2750 Hz (bei 100 g) FACH HOCH SCHULE JENA Piezoelektrischer Effekt (I) V2-20 UNIVERSITY OF APPLIED SCIENCES • Bei kristallinen nichtleitenden Festkörpern mit eingebautem elektrischen Dipolmoment tritt bei mechanischer Verformung eine Ladungsverschiebung auf. • Dadurch wird ein elektrisches Feld zwischen den Oberflächen erzeugt. • Mikroskopisch ändert sich die elektrische Polarisation. • Die elektrischen Ladungen an den Oberflächen können über Elektroden abgegriffen werden (Abb.) Bei elastischer Verformung besteht ein linearer Zusammenhang zwischen einwirkender Kraft F und der verschobenen Ladung Q: Q = Kp · F Kp - piezoelektrischer Koeffizient (PiezomoduI) FACH HOCH SCHULE JENA Piezoelektrischer Effekt (II) V2-21 UNIVERSITY OF APPLIED SCIENCES Quarz-Kristall: Ladungsverschiebung bei Deformation eines Blei-Zirkonat-Titanat (PZT): Polarisation durch Deformation des Perowskit-Kristallgitters FACH HOCH SCHULE JENA Piezoelektrischer Effekt (III) UNIVERSITY OF APPLIED SCIENCES V2-22 Kp hängt von Orientierung der Krafteinwirkung bezüglich der durch die Ladungsanordnung des Festkörpers gegebenen Symmetrieachsen (polare Achsen) ab. • longitudinaler Piezoeffekt : Kraft parallel zur Dipolachse • transversaler Piezoeffekt ; Kraft senkrecht zur Dipolachse • Schub-/Scher-Piezoeffekt: Einwirkung eines Kräftepaares Piezoelektrischer Effekt ist umkehrbar: Anlegen eines elektrischen Feldes bewirkt eine mechanische Verformung piezo-elektrischer Materialien (elektrostriktiver Effekt) Î z.B. Erzeugung mechanischer Schwingungen (z.B. Schwingquarze) Anwendungen: Ultraschallwandler, Nanometer-Positionier-Elemente, Ultraschall-Echolot FACH HOCH SCHULE JENA UNIVERSITY OF APPLIED SCIENCES Wichtigste piezoelektrische Materialien V2-23 • Quarz (SiO2-Kristalle) Kp = 2,3 ·10-12 As/N (relativ niedrig, aber auch geringe T-Abh. von 0.02 %/K) • Piezokeramiken: PZT (Blei-Zirkonat-Titanat) Kp = 700 ·10-12 As/N (300 x größer als Quarz, aber relativ hohe T-Abh.) polykristallines gesintertes Material ist zunächst unpolar (kubische Perowskit-Struktur), wird bei Herstellung durch elektrisches Feld polarisiert (Deformation des Kristallgitters) Polarisation bleibt danach erhalten. • Piezoelektrische Polymere: PVDF (Poly-Vinyliden-Difluorid) Kp = 23 ·10-12 As/N (transversaler Piezomodul) dünne Folien (ca. 20 μm) mit Metallbeschichtung Polarisation (Ausrichtung der mikroskopisch ungeordneten Dipole) durch mechanisches Recken und Anlegen eines elektrischen Feldes FACH HOCH SCHULE JENA UNIVERSITY OF APPLIED SCIENCES Piezoelektrische Druck/Kraft-Sensoren V2-24 Hauptanwendungsgebiet piezoelektrischer Sensoren ist die dynamische Kraft-und Druckmessung und die Ultraschall-Messtechnik • Nachteil: erzeugte Ladung durch mechanische Verformung bleibt nicht beliebig lange erhalten, sondern fließt über den Isolationswiderstand der Sensor- u. Verstärkerschaltung ab {Leckströme), deshalb i.A. nicht für statische Messungen geeignet (nur bei Quarz sind Entladezeitkonstanten von einigen 10 min erreichbar) • Vorteil: Ladungsverschiebung folgt der mechanischen Verformung nahezu verzögerungsfrei, deshalb gut geeignet zur Messung schnell veränderlicher Kräfte und Drücke Anwendung piezoelektrischer Materialien als UltraschallWandler: als Sender und als Empfänger = als Aktuator und als Sensor FACH HOCH SCHULE JENA Sensoren auf Quarz-Basis UNIVERSITY OF APPLIED SCIENCES V2-25 Quasistatische und dynamische Kraft- und Druckmessung, Mikrofon • Scheiben aus synthetischem Si02-Einkristall werden mit der piezoelektrisch günstigsten Orientierung herausgeschnitten und mit Metallelektroden bedampft • Trotz geringen Piezomoduls günstige Sensoreigenschaften: - geringe Temperaturabhängigkeit - hohe Druckfestigkeit (bis 104 bar), - großer E-Modul (8·1010 N/mm²), d.h., praktisch weglose Kraft- bzw. Druckmessung - Temperatur-Beständigkeit bis 500°C - hohe Grenzfrequenz >100 kHz Anwendung für Aufnahme von Phasen-Diagrammen (p-V-Diagramm) von Verbrennungsmotoren (Messung von Wechseldrücken bis 7500 bar bei Temperaturen bis 350°C) Bei statischen Messungen: Ladungsverstärker nachgeschaltet FACH HOCH SCHULE JENA Sensoren auf Piezokeramik-Basis V2-26 UNIVERSITY OF APPLIED SCIENCES z.B. Blei-Zirkonat-Titanat-Keramik (PZT) Merkmale: • • • • • • vielfältige. Formen und Abmessungen (auch Folien) preisgünstig herstellbar großer Piezomodul große Temperatur-Abhängigkeit (pyroelektrischer Effekt) Alterungs- und Hysteresis-Erscheinungen kleine Entladezeit-Konstante im ms-Bereich Æ dynamische Wandler, Ultraschall (20 kHz ... 100 MHz) Anwendung als: Beschleunigungs-Sensoren Ultraschallwandler Schallemissionsmessung z.B. Klopfsensor am Kfz-Motorblock Sensoren auf Piezopolymer-Basis (PVDF): großflächige flexible Sensoren (Drucktasten u.a.) FACH HOCH SCHULE JENA Anwendungsbeispiele UNIVERSITY OF APPLIED SCIENCES V2-27 Piezoelektrischer Klopf- oder BeschleunigungsAufnehmer (am Kfz-Motorblock) Vibrationen des Motorblocks beschleunigen die seismische Masse m mit der Beschleunigung a, d.h., auf die Piezokeramik wirt die Kraft F = m·a. Piezoelektrische Drucktaste (transversaler Effekt) FACH HOCH SCHULE JENA Akustische Sensoren UNIVERSITY OF APPLIED SCIENCES V2-28 Piezoelektrisches Material (z.B. PZT-Keramik) wird als Ultraschall-Sender (elektrostriktiver Effekt) und als Ultraschall-Empfänger (piezoelektrischer Effekt) genutzt, aber nicht für den Messeffekt Messeffekt ist die Änderung der Schallgeschwindigkeit im Medium (Luft/Gas, Flüssigkeiten oder Festkörper) zwischen Sender und Empfänger) • Phasenmessung mit Frequenzen 40 - 200 kHz oder • Laufzeitmessung mit Ultraschallimpulsen z.B.: vLuft = 344 m/s, vWasser = 1480 m/s bei 20°C Vielfältige Anwendungen: Messung von Entfernung, Strömungsgeschwindigkeit, Gaszusammensetzung, Medizin (Ultraschall-Tomographie) Miniaturisierte (integrierte) Ultraschallsensoren: SAW-Resonatoren (Abb.), SAW- oder Oberflächenwellen-Sensoren (SAW = „Surface Acoustic Wave“) FACH HOCH SCHULE JENA UNIVERSITY OF APPLIED SCIENCES Ultraschall-Sensor V2-29 FACH HOCH SCHULE JENA UNIVERSITY OF APPLIED SCIENCES Akustische Oberflächenwellen (SAW) V2-30 SAW (Rayleigh-Wellen) breiten sich mit geringer Dämpfung an der FestKörper-Oberfläche als Longitudinalwellen aus, während die Transversalwelle senkrecht zur Oberfläche stark gedämpft ist. SAW werden durch kammartige lnterdigital-Elektroden, die auf piezoelektrische Materialien (z.B. Quarz, LiNb03, ZnO) aufgedampft sind, elektrostriktiv angeregt und durch ein zweites lnterdigital-Elektrodenpaar (Empfänger) als elektrisches Signal aufgenommen. Die SAW-Wellenlänge wird durch Abstand zwischen den Kämmen der Elektrode festgelegt (λSAW = 2d), typisch λSAW = 10 μm. Mit Schallgeschwindigkeit von Quarz, vs = 3100 m/s, folgt für die Resonanzfrequenz: fR = vs / λSAW ≈ 300 MHz. Messeffekt: Änderung der Ausbreitungsgeschwindigkeit vs (z.B. durch Massebelegungen), oder der Länge L, (z.B. durch Dehnung der ÜbertragungsStrecke, mittelbar durch Kraft, elektrische Felder oder Temperatur) führen zu einer Änderung der Resonanzfrequenz, die empfindlich nachgewiesen werden kann („Resonanz-Sensoren") Î frequenzanaloges Sensorsignal FACH HOCH SCHULE JENA UNIVERSITY OF APPLIED SCIENCES Übersicht über piezoelektrische Sensoren V2-31