Kap.II Dioden

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BEL
Kap. I
1
Rainer
Passive Bauelemente
1.1 Widerstände
* Begriffe: linear & nichtlinear:
Symbol:
zB. 
U-I - Kennlinie:
I
I
U
U
A: Arbeitspunkt ( UA / IA )
Gleichstromwiderstand RA =
Widerstand R = r =
diff. Widerstand rA =
* Kenndaten
Abb.: Nennwerte:
1(4,5) gemäß
Normenreihe zB. E 12, E 24 und
Farbcode
Anlieferungstoleranz:
zB. 2 %, 5 %
Belastbarkeit:
zB. ¼ W, 1W
Pel max angegeben meist für übliche Umgebungstemperatur Umg. ( 40°C)
festgelegt durch die maximal zulässige Oberflächen-(Schicht-)Temperatur max = Umg. + max.zulässige
Temperaturerhöhung Tmax
physikalische Grundlage:
Für jeden Belastungsfall stellt sich (nach kurzem Erwärmungsvorgang) ein Thermisches Gleichgewicht
ein, gekennzeichnet durch: Pel = Pth , d.h. elektrisch zugeführte Leistung = an die Umgebung abgegebe-ne
Leistung. Die sich einstellende Temperaturerhöhung T ist direkt proportional dieser Leistung
T = Rth * Pth = Rth * Pel mit Proportionalitätsfaktor Wärmewiderstand Rth
 Thermisches Ersatzschaltbild :
Wärme“strom“ Pth (= Pel)
durch Wärme“widerstand“ Rth
erzeugt die
Temperatur“spannungsdifferenz“ T
T = Oberfl. - Umgebg.
Cth : Wärmekapazität
BEL
2
für Betriebstemperaturen oberhalb der festgelegten Umgebungstemperatur U (zB. 30°C ) gilt:
Rainer
Lastminderungs-(Derating-)kurve:
P
Die zulässige Verlustleistung muß von Pel max (maximal zulässige, vom Hersteller angegebene Verlustleistung PV ) bis 0 abnehmen, wenn sich die Betriebstemperatur vom festgelegten Wert U bis zur maximal
zulässigen Oberflächentemperatur Oberfl des Widerstandmaterials erhöht.
Beispiel:
PV
U
Oberfl
PV = 2W (festgelegt für Umgebungstemperaturen bis zu 30°C)
maximale Oberflächentemperatur: 230°C
Gefragt: Rth, Deratingkurve, Pzulässig für eine Betriebstemperatur von 180°C
P [W]
2
1
[°C]
0
100
200
Temperaturkoeffizient TK:
zB. -20 bis -100 ppm/K für Kohleschichtwiderstände
Definition: TK = relative Widerstandsänderung / Kelvin
 TK =
R
R20  RT = R20°C ( 1 + TK*T )
T
Umrechnung:
bei höheren Genauigkeitsanforderungen verwendet man zusätzlich einen quadratischen TK:
 RT = R20°C ( 1 +  20*T +20*(T)² ) zB. bei Temperatursensoren
Zeitliche Konstanz:
zB. 3,5 bis 5 % bei Kohleschichtwiderständen bis 10k (DIN 44051/52/53)
zusätzliche Toleranz berücksichtigt Alterung , auch gesamten Betriebs -Temperaturbereich
 Betriebstoleranz = Anlieferungstoleranz + zeitl.Konstanz
Toleranzrechnung.
Fehlerfortpflanzung
worst case - Rechnung
Eigeninduktivität / Eigenkapazität :
Beschreibung des realen Bauelementes „Widerstand“ durch
Zusätzlich zum idealen ohmschen Widerstand R erscheint Induktivität L in Reihe und Kapazität C parallel
mit
R=
l
1
*
q

und
L = µo *
A
* N²
l
Abweichungen vom idealen Verhalten (nur R wirksam) tritt
erst bei höheren Frequenzen auf in 2 Varianten auf:

Ersatzschaltbild:

BEL
3
Rainer
Abb. bei Drahtwiderständen: L maßgebend (Wickeltechnik!) ab etwa 100 kHz,
1(1)
abhängig von der Wickeltechnik
bei wesentlich höheren Frequenzen Resonanzerscheinungen zufolge C
1(1)
bei Schicht -/ Dickschichtwiderständen: bis 100 ist L, ab 100 C (zB.0,5pF, konst.) maßgeblich
Angegeben wird die Abhängigkeit des Scheinwiderstandes Z von der Frequenz f
Beispiel: R = 1M, L = 7nH, C = 0.3pF  Simulation mit EWB für 1kHz  f  10GHz
Rauschen :
Thermisches Rauschen (ohne Strom) zufolge T > 0
Rauschleistung: Pr th = 4*k*T*f
mit k = 1,23*10-23 Ws/K (Boltzmann-Konstante)
T abs. Temperatur, f Bandbreite
 Rauschspannung Urth =
Pr th * R =
4 * k * T * f * R  4 nV*
R f
bei T=300K
*
k Hz
Beispiel: Gefragt Urth eines 10k-Widerstandes bei 27°C und einer Frequenzbandbegrenzung auf 100kHz
Stromrauschen bei zusätzlichem Strom: Ur s (Größenordnung zB.0,5µV/V)
überwiegt bei Kohleschicht- und Massewiderständen ab I = 10 µA (Nieder-Frequenz-Bereich)
Rauschgesamtspannung Ur = Ur th²  Ur s²
für Schaltungsberechnungen wird der rauschende Widerstand
durch idealen rauschfreien Widerstand R(T=0) und Rauschspannungsquelle Uor in Serie ersetzt
Ersatzschaltbild:
 maximal abgebbare Rauschleistung bei Anpassung: Re = R(T=0)
Pr = k*T*f
PSignal
Rauschabstand :
[dB]
Pr
Bauformen:
Abb: Festwiderstände:
1(1)
Drahtwiderstände
Schichtwiderstände ( Kohle-, Metall- )
Dickschichtwiderstände
Massewiderstände
stellbare Widerstände / Poti’s: Dreh -, Schiebe -, Trimmer
* Temperaturabhängige Widerstände
homogene Halbleitermaterialien (s.u.), nichtlineare U - I - Kennlinie
Heißleiter (NTC):
TK0 = -3 bis -6 %/K (bei Zimmertemperatur, T 0 = 300K), stark temperaturabhängig
(gegenüber - 20 bis -100 ppm/K bei Kohleschichtwiderständen!)
Widerstands - Temperatur Kennlinie
 I - U Kennlinie:
U
R []
106
105
104
103
10
3
102
21012
0
 [°C]
u
100
200
u
Eigenerwärmung
maßgebend
I
BEL
4
Rainer
U
U
(Ursprungsgerade); ab  =U wird R =
(=tan) zunehmend kleiner
I
I
Umrechnung der R()-Kennlinie in die I-U-Kennlinie punktweise:
U ( )
T
gegeben ( / R() ):  T = -20°C 
= Pth = Pel  U() = Pel * R ( ) und I() =
R ( )
Rth
bis U = const. R = const. =
Beispiel: Welcher Arbeitspunkt (U/I) gehört zu  = 60°C (z.B.für Rth = 200K/W)?
(60°C/1k)  (
/
)
Der Zusammenhang R = f() ist auch mathematisch angebbar (fallende e-Funktion)
Anwendungsbeispiele: Temperatursensoren („Fremderwärmung“)
Anlaßverzögerung in Stromkreisen („Eigenerwärmung“)
Kaltleiter (PTC):
TK0 = +7 bis +60 %/K im Arbeitsbereich, stark temperaturabhängig
R = f() ist mathematisch nicht darstellbar, Umwandlung in die U-I -Kennlinie analog
Anwendungsbeispiele: Temperatursensoren
Überwachung von Flüssigkeitspegeln, Entmagnetisierungsschaltungen
* Spannungsabhängige Widerstände VDR:
U-I - Kennlinie nichtlinear gemäß Potenzgesetz
 R = f(U); R nimmt nit steigender Spannung ab
meßtechnische Bestimmung der Kenndaten des VDR siehe z.B. Laborversuch aus GEL
Anwendungsbeispiele: Überspannungsschutz, Spannungsstabilisierung
* Magnetfeldabhängige Widerstände MDR:
Feldplatte
Hallgenerator als aktives Bauelement
* Lichtabhängige Widerstände LDR
Fotowiderstand
Fotozelle als aktives Bauelement
1.2 Kondensatoren
„zwei gegeneinander isolierte Leiterplatten“ geeigneter Größe zur Speicherung von Ladungen
C
Für Gleichspannung gilt Q = C*U
mit der gespeicherte Energie Wel = *U²
2
du
Für zeitabhängige Spannung u(t): dQ = i*dt = C*dU  i = C*
dt
1
1
Für Wechselspannung û*sint: ideales Bauelemente hat Blindwiderstand jXC =
, Betrag
C
jC
* Kenndaten:
Nennkapazität:
Toleranzen:
pf bis kF (Goldkondensatoren)
üblich  1% ...  20% für Folien-Kondensatoren
+ 100% und - 20% für Elektrolytkondensatoren
TK:
abhängig hauptsächlich von den Eigenschaften des Dielektrikums
z.B 10-5 bis 10-3/K (Folienkondensatoren), wesentlich höher bei Elkos
Angabe dieser Werte über Farbcode (analog Widerstände), in Klarschrift oder durch Kennbuchstaben je nach
Baugröße und Bauform
Belastbarkeit insbesondere Spannungsbelastbarkeit für Gleich- und WechselspannungenAngabe
z.T. durch zusätzlichen Kennbuchstaben
zusätzlich: maximale Flankensteilheit U/t bei Impulsbelastung
BEL
5
Rainer
* Verluste / Ersatzschaltbild allgemein:
Bauelement Kondensator = ideale Kapazität C +
Serienwiderstand r ( zB. Elektrolytstrecke)
Serieninduktivität L
Parallelwiderstand RIsolation
Parallelwiderstand RDielektrikum
Vereinfachungen:
Verluste bei Gleichspannungsbetrieb:
im Wesentlichen bestimmt durch Risol (Größenordnung M) || C
Kenngröße: direkt Risol oder Eigenzeitkonstante E = Risol *C
Beispiel: E = 10h bei C = 100µF 
Verluste bei Wechselspannungsbetrieb:
Kenngrößen: Verlustfaktor tan  und Güte Q =
Definition:
tan  =
PW
PB
1
tan 
also Verhältnis von Wirk- zu Blindleistung
 gibt die Winkelabweichung vom rein kapazitiven Verhalten, also vom (idealen) 90°-Winkel zwischen
Strom und Spannung wieder.
Berechnung von tan  in Abhängigkeit von der Frequenz und den Ersatzschaltbildwerten für die beiden
folgenden einfachsten Varianten:
bevorzugt für Folien- und Keramikkondensatoren:
bevorzugt für Elektrolytkondensatoren:
Vereinfachtes ESB: CRp (  Rdiel )
Vereinfachtes ESB: C in Serie mit RS
Zeigerdiagramm für || Schaltung
Zeigerdiagamm für Serienschaltung
tan  =
tan  =
bei höheren Frequenzen ist zusätzlich die Induktivität LS zu berücksichtigen:
BEL
ESB:
6
RERS
CS
Rainer
LS
= Verhalten eines Serienresonanzkreises
Dargestellt wird der Verlauf des Betrages der Gesamtimpedanz Z über der Frequenz im log. Maßstab
(ergibt bei idealem Kondensator C einen Abfall proportional 1/2f bzw. eine fallende Gerade)
 Frequenzabhängigkeit
des Scheinwiderstandes:
Beispiel: C = 1,5µF
1
bei 1kHz:Z
10
C
bei 100MHz: Z L 10 (z.B.)
Z/ , log. Maßstab
101
bei Resonanz: Z= RESR = 10m
RESR steht für Eqivalent Series Resistor
Da in diesem Ersatzwiderstand auch der
- zu C parallel liegende - dielektrische
Widerstand RDiel mitberücksichtig wird,
ist RESR frequenzabhängig.
Weiteres Beispiel:
10-1
f,log
10-3
1kHz
1 MHz
100
C = 1µF, L = 6nH, RESR = 10m
Simulation mit EWB
für10kHz  f  100MHz
Abb. Verlustfaktoren von verschiedenen Werkstoffen in Abhängigkeit von der Frequenz
3  Nutzbare Frequenzbereiche bei den wichtigsten Kondensatortypen
beste Hochfrequenzeigenschaften: Keramik Typ I ( = NDK), Styroflex
nur für NF-Anwendungen brauchbar: Elektrolytkondensatoren, Al-Elko nur bis 50Hz (Siebung)
höchste Kapazitätswerte erzielbar mit Elkos - in Keramik nur Werte bis nF-Bereich realisierbar
Zur Siebung: Tantal (großer Kapazitäswert, wirksam für Brumm) + parallel
Keramik (kleiner Kapazitätswert, wirksam für hochfrequente Störspitzen)
* Bauformen / Anwendungsklassen:
Einteilung gemäß Isoliermaterial, geordnet nach steigendem :
Papier
Glimmer
Kunststoff
Cellulose-Acetat (Lack) ( U )
Hostaphan (Polyester)
(T)
Makrofol (Polycarbonat) ( C )
Styroflex (Polystyrol)
(S)
Keramik
NDK (niedrige Dielektrizitätskonstante)
HDK (hohe Dielektrizitätskonstante)
Elektrolyt
Aluminium- und
Tantal - Elko’s (extrem dünne Isolierschicht, extrem große Fläche)
Verlustfaktor  Frequenzbereich
Baugröße  Speichervolumen
Spannungsbelastbarkeit
Bei Folienkondensatoren zuätzlich Einteilung gemäß Elektrode:
zB. Alufolie (ohne Kennbuchstabe), aufgedampfte Metallschicht (M)
wesentliche Merkmale:
BEL
Kap.II
7
Rainer
Dioden
2.1 Grundbegriffe
* Halbleiter: spezifischer Widerstand "zwischen" Leiter und Isolator: 10-6 m <  < 108 
Leiter:
Halbleiter:
Isolator:
Sehr viele freie Ladungsträger, 1028 - 1029 Ladungsträger / m3, je 1 Elektron / Atom
Leitungsband besetzt
TK positiv: T größer  mehr Stöße  größere Reibung
T  0 :   0 (Supraleitung !)
wenige freie Ladungsträger, 1016 - 1019 Ladungsträgerpaare / m3, Elektronen , Löcher
Abstand zwischen Valenzband und Leitungsband klein ( Leitungsband z.Teil besetzt)
TK negativ: T größer  mehr Ladungsträger
T  0 :    (Isolator)
fast keine freien Ladungsträger
Abstand zwischen Valenzband und nicht besetzten Leitungsband groß
* Driftstrom:
gerichteter Ladungsträgertransport durch (Halb-)Leiter-Querschnitt zufolge Spannung bzw Feldstärke
Zusammenhang zwischen Strom durch und Spannungsabfall am (Halb-)Leiter: Ohmsches Gesetz
Berechnung des Driftstromes mit Benutzung atomphysikalischer Größen:
A:
l:
N:
vd
q:
(Halb-)Leiter-Querschnitt
Leiterstücklänge
Anzahl der Ladungsträger/m3
Driftgeschwindigkeit
Ladung eines Ladungsträgers
meist = Elementarladung des
Elektrons |e|
Gesamtzahl der Ladungsträger im Volumen V:
Anzahl der Ladungsträger / m Leiterlänge:
Anzahl der Ladungsträger, die /sek
einen beliebigen Querschnitt A passieren:
Leiterstrom I:
Stromdichte
I
= Sdrift = q*N*vd
A
Ursache von Driftstrom bzw. Driftstromdichte ist die elektrische Spannung U, die am (Halb-)Leiter anliegt
bzw. die elektrische Feldstärke E, die im Leiter zufolge der anliegenden Spannung herrscht. Mit Benutzung
der makroskopischen Materialgröße G    A
l
gilt das Ohmsche Gesetz: I = G*U

Stromdichte:
Sdrift = *E
Gleichsetzen zeigt:
Proportionalitätsfaktor: Ladungsträgerbeweglichkeit µ [

m²
]
Vs
Sdrift = q*N*µ*E
 = q*N*
gültig für Leiter, Halbleiter, Elektrolyte
Abweichung vom ohmschen Verhalten: µ, N nicht konstant, zB Sättigungs-, Lawinen-Effekte
BEL
8
Rainer
Beispiel: Berechnung der spezifischen Leitfähigkeit i von reinem Si (nur Elektronenstrom):
Si =
zum Vergleich: reines Cu:
µCU =
Cu = 0,56*108
Cu
=
q * NCU
S
m
* Diffusionsstrom:
Allgemein: Teichenfluß von einer Region höherer Konzentration zu einer Region niedrigerer Konzentration, verursacht durch die ungerichtete (statistisch verteilte) thermische Bewegung der Teilchen.
Hier führt dies zu einem begrenzten Ladungsträgeraustausch an Grenzflächen unterschiedlicher
Ladungsträgerkonzentration N = N(x):
N[m-3]
Ergebnis:
örtlich begrenzter Ausgleichsstrom
x[µm]
Teilchenfluß gemäß: Fick'schem Gesetz:
Proportionalitätsfaktor: Diffusionskoeffizient D [
Diffusions-Stromdichte:
m²
]
s
Sdiff = -q*D*
dN
dx
* Eigenleitung:
tritt auf in reinen Halbleitermaterialien (kovalente Bindung), die im Periodischen System
der Elemente bei den 4-wertigen Elementen zu
finden sind, zB. Si, Ge bzw. in III-V-wertigen
Verbundhalbleitern zB. GaAs
Gruppe III
IV
Anzahl der Elektronen
V
Vierwertige Elemente: In der äußersten Elektronenschale (häufig nicht voll besetzt) befinden sich 4 Valenz-Elektronen je Atom. Jedes
dieser 4 Valenzelektronen verbindet sich mit je einem Elektron der 4 nächsten Nachbaratome zu einem
stabilen Eletronenpaar. Auf Grund dieser - energetisch günstigsten - Konfiguration kristallisieren diese
Elemente in der Struktur eines Diamantgitters aus.
Zweidimensionale Darstellung(Si):
Bei T = 0: Si-Kristall ist Isolator:
Energiezufuhr durch (kleines) el.Feld reicht nicht aus,
um die Elektronenpaarbindung aufzubrechen.
Energiezufuhr durch Erwärmung (thermische Energie)
oder andere Energieformen führt zum Aufbrechen einzelner Paarbindungen:
 Bildung von im Kristall beweglichen Ladungsträgerpaaren:
Elektronen +
Elektronenfehlstellen (Löchern)
BEL
9
Rainer
Bei Anlegen einer Spannung fließt ein Driftstrom = Elektronenstrom + Löcherstrom
Die Leitfähigkeit ist festgelegt durch die stark temperaturabhängige Dichte der Ladungsträgerpaare (Ni)
= Elektronendichte (ni) =Löcherdichte (pi) des
eigenleitenden (intrinsic) Materials.
Strom durch Halbleiter:
+
-
Rekombination / Paarbildung an den Anschlüssen
der Zuführungsleitungen (Elektronenstrom!)
Zahlenwerte für
T = 300 K: Ni  1,5*1016 Paare/m3 bei Si
2,5*1019
Ge
1 *1013
GaAs bezogen auf etwa 5*1028 Atome/m3
* Störstellenleitung:
gezielter Einbau von Fremdatomen bei hohem Reinheitsgrad des Ausgangsmaterials (10-10)
n-Halbleiter
5-wertige Donatoratome (zB As, P)
ND Atome/m3  zusätzliche Elektronen, bei Zimmertemperatur frei beweglich im n-Halbleiter mit Elektronenkonzentration n  ND (häufige Dotierungsart)
Löcherkonzentration p (thermisch erzeugte Ladungsträgerpaare) durch Rekombination stark reduziert
p-Halbleiter
3-wertige Akzeptoratome (zB In, Ga, Al):
NA Atome/m3  bei Zimmertemperatur besetzen benachbarte Valenzelektronen die Fehlstellen und erzeugen zusätzliche frei bewegliche Löcher im
p-Halbleiter mit Löcherkonzentration p  NA
Elektronenkonzentration n stark reduziert
Grundgleichung für die resultierenden Ladungsträgerkonzentrationen n und p im Störstellen-Halbleiter für
das thermische Gleichgewicht:
p*n = Ni2
Ni²
n
N i²
p-Halbleiter. Majoritätsträger = Löcher, Dichte p  NA, Minoritätsträger = Elektronen, Dichte n 
p
n-Halbleiter: Majoritätsträger = Elektronen, Dichte n  ND, Minoritätsträger = Löcher, Dichte p 
Beispiel: Si mit Ni = 1016/m3,
dotiert mit As, ND = 1020/m3
=
für die Eigenleitfähigkeit (s. Driftstrom)ergab sich i = 0,234*10-3 S/m
* p-n Übergang:
räumliche Kombination von p- und n-Material genauer einheitlicher Halbleiterkristall mit zwei unterschiedlich dotierten Bereichen (technisch hersgestellt zB. durch Aufkristallisieren von p-Material auf n-Substrat):
BEL
10
Rainer
p- und n-Halbleiter nebeneinander
Störstellen Konzentration
p-n - Übergang
Störstellen Konzentration
x=0
x=0
Potential
Der Ladungsträgerkonzentrationssprung an der
Grenzfläche erzeugt zunächst Diffusionsströme:
Löcher vom p- in n-Bereich, im p-Bereich verbleiben
neg.geladene Akzeptorionen
Elektronen vom n- in p-Bereich, im n-Bereich verbleiben pos.geladene Donatorionen
x=0
Ladungstrennung - n-Bereich (rechts) läd sich positv gegen p-Bereich(links) auf - führt zum Aufbau eines
elektrischen Feldes gerichtet von der positiven Raumladung (rechts) zur negativen (links)
Dieses Feld wirkt gegen die Bewegung der Diffusionsströme, diese nehmen ab bis
im thermischen Gleichgewicht die Kraft auf Grund des elektrischen Feldes die Kraft, erzeugt durch das
Konzentrationsgefälle genau ausbalanciert.
Diffusionsspannung UD : zugehörige Potentialdifferenz zwichen n- und p-Bereich (s. Potentialverlauf).
Der Raumladungsbereich links und rechts von der Kontaktfläche stellt gleichzeitig eine ca.1µm breite
Sperrschicht, frei von beweglichen Ladungsträgern dar infolge fast 100%iger Rekombination
Diffusionsspannung UD abhängig von abs.Temperatur T und Dotierungsverhältnissen Ni, NA und ND
Bei T = 300 K gilt:
UD  0,7V für Si
UD  0,3V für Ge
* p-n Übergang an äußerer Spannung U:
Polung in Sperrichtung:
p-Bereich an n-Bereich an +
Verbreiterung der Sperrschicht: Äußeres Feld
zufolge U (konzentriert auf Sperrbereich!) verstärkt inneres Gegenfeld zufolge UD
 Diode sperrend: abgesehen von
minimalem Sperrstrom zufolge Eigenleitung
(Diode für Minoritätsträger in Durchlaßrichtung!)
nA-/ µA-Bereich bei Si / Ge; starke Temperaturabhängigkeit: in etwa Verdoppelung pro 10 K
Polung in Vorwärtsrichtung:
umgekehrte Polarität
Abbau der Sperrschicht: Äußeres Feld reduziert
inneres Gegenfeld
 Diode leitend: p- und n-Diffusionsströme über die
Grenzfläche; Minoritätsträgerspeicherung und
Rekombination im Übergangsbereich; Majoritätsträgerströme im restlichen p- und n-Bereich
BEL
11
Rainer
* U-I Kennlinie der Diode:
IF /mA
gemessener Kennlinienverlauf:
graphische Darstellung für Vorwärts- (1.Quadrant) und Sperr-Richtung (3.Quadrant)
10
UR /V
UF /V
formelmäßige Beschreibung nach Shockley:
e
I = IRS* [
U
UT
100
0.3
0.7
1
-1]
IRS: Sperr-Sättigungsstrom (Material,Geometrie, abs. Temperatur T0)
k *T
UT =
: Temperaturspannung  26mV
e
bei T0 = 300 K
Näherung für Durchlaßbereich (forward):
10
IR /µA(Ge)bzw.nA(Si)
IF  I RS*
e
UF
UT
gültig für U = UF > 0,1V
Dyn.Durchlaßwiderstand rd:
rechnerisch zu ermitteln aus dem Kehrwert von
dIF
dUF
UT
26mV

Arbeitspunktabhängig!
IF
IF
Abweichung vom exponentiellen Verlauf ab etwa 10mA infolge der Halbleiter-Bahnwiderstände
Temperatureffekte:
starke Temperaturabhängigkeit der Kennlinie zufolge der Abhängigkeit IRS (und, weniger UT) von T:
iD
Verschiebung der Kennlinie um 2mV nach links pro K
siehe Sperrstrom des p-n-Übergangs
 rd =
Schaltverhalten:

Speicherung der Ladungsträger im Übergangsbereich im Vorwärtsbetrieb der Diode führt zu verzögertemAusräumen dieser
Ladungen beim Umschalten in den Sperrzustand:
Rückwärtserholzeit trr (reverse recovery)
Näherung für Sperrbereich (reverse):
IR  -IRS
gültig für U = -UR < -0,1V
Verhalten im Durchbruchbereich wird nicht erfaßt (Lawineneffekte)
Diodenersatzschaltbilder / Simulationsmodelle:
Einfachstes Modell: Diode = Schalter
Zufolge Nichtlinearität des Bauelementes sind bei Schaltungsberechnungen stets 2 Modelle erforderlich
Berechnung des Arbeitspunktes (DC-Analyse):
Rechnermodell: ideale Kennliniengl.(Shockley) mit angepaßtem IRS und leicht modifiziertem UT
vereinfachtes Modell: stückweise lineares Modell, siehe Punkt 4) Anwendungsbeispiele
rd
Kleinsignal-Ersatzschaltbild für geg. AP (AC-Analyse):
dQ
zB. bei AP im Durchlaßbereich einfachstes Modell: rd || Cd mit Cd =
Cd
dUD
Cd : Diffusionskapazität: gespeicherten Ladungen in Abhängigkeit von der anliegenden Spannung UD
2.2 Angaben in den Datenblättern:
t
BEL
beinhalten *
*
*
*
12
Allgemeine Angaben:
typische Kennlinien:
absolute Grenzdaten,
Kenngrößen, stat./dyn:
Rainer
Abmessungen, Anschlüsse, Gehäuseart, Anwendungen...
U-I Kennlinien, Temperaturabhängigkeiten..
die nicht überschritten werden dürfen
für den Betrieb in typischen Anwenderschaltungen
Beispiel: 1N4148: Si (Planar) Universaldiode für kleine Ströme
Kennlinien: IF = f(UF), IR = f(UR) in lin.-log.Darstellung mit Streugrenzen
Abb:
UF = f(T) mit Parameter IF
7
absolute Grenzdaten: für Sperrspannungen und Durchlaßströme (=, , pulsf., Mittelwerte)
Verlustleistung Ptot, Sperrschichttemperatur ( Rth, Deratingkurve)
Kenngrößen, stat.: Durchlasspannung UF für geg. IF ,Sperrstrom IR für geg. UR, UDurchbruch
dyn.: Kapazität, Richtwirkungsgrad,
Schaltzeiten (trr)
2.3 Diodentypen:
* Gleichrichter- und Schalterdioden:
zB. Si-Flächen-Diode, Ge-Spitzendiode, Epitaxial-Planar-Diode
Einteilung nach Material, Herstellungsverfahren, Aufbau.
* Z - Dioden:
IZ
mA
Ptot
Ausnutzung des scharf ausgeprägten, reversiblen Spannungsdurchbruchs im Sperrbereich
100
UZ- IZ Kennlinie = Sperrkennlinie (Darstellung im1.Quadr.)
zB: Typreihe BZX 55 mit gestaffelten Z-Spannungen (zB.E6)
zwei Arten von Spannungs-Durchbrüchen:
Zener-Effekt (Feldemission) bis zu UZ0 = 5V (TKU neg)
Avalache-(Lawinen-)Effekt (Stoßjonisation) ab 5V(TKU pos)
UZ
dynamischer Z-Widerstand: rZ =
im Durchbruchbereich
IZ
0
(Arbeitspunkt): rz = rzj + rzth
rzj inhärenter Z-Widerstand: bei konstanter Temperatur
rzth thermischer Z-Widerstand, zufolge Temp.Koeff. TKU der Z-Spannung UZ0
Ersatzschaltbild (für Sperrichtung): Serienschaltung von UZ0 und rZ 
* PIN-Dioden:
20
10
UZ
V
UZ0 rz
stark dotierte p+ und n+ Bereiche durch extrem schmalen Intrinsicbereich getrennt
Anwendung in gleichstromgesteuerten HF-Dämpfungsgliedern, optische Nachrichtentechnik
* Schottky-Dioden:
spezieller Metall-Halbleiterübergang (Randschichtphänomen)
sehr schnelle Dioden mit Diffusionsspannungen ähnlich Ge
Hauptanwendung bei Schottky-TTL-Schaltungsfamilie
* Tunneldioden:
stark dotierte p++ und n++ Bereiche mit extrem schmaler Sperrschicht  Tunneleffekt (Quantentheorie)
U-I Kennlinie mit bereichsweise fallender Charakteristik  neg.diff.Widerstand
* Kapazitätsdioden:
spezielle Si-Dioden mit besonders ausgeprägter Abhängigkeit der Sperrschichtkapazität von der angelegten
Sperrspannung; Anwendung bei elektronischer Abstimmung, automatischer Nachstimmung
* Photodioden :
Innerer Photoeffekt: Ladungsträgererzeugung in Sperrsch. durch Photonen
Kennlinienfeld: IR = f(UR), Parameter Beleuchtungsstärke B [lx]
* Lumineszenzdioden (LED):
BEL
13
Rainer
Lichtemission zufolge freiwerdender Rekombinationsenergie,
Diode in Durchlaßrichtung, Diffusionsspannungen ab etwa 1,5V
Farbe (Lichtwellenlänge) festgelegt durch Bandabstand, zB. infrarot bei GaAs
* Laserdioden:
Light Amplification by Stimulated Emission of Radiation; Abgabe von kohärentem Licht
Hauptanwendung : Nachrichtenübertragung in Lichtwellenleitern (LWL)
2.4 Anwendungsbeispiele (Laborversuch):
* Einweggleichrichterschaltung
mit Si-Diode:
Schaltung:
Dioden ESB für
Durchlaßrichtung:
Diskussion der Schaltung:
ohne Siebkondensator:
u(t)[V]
für rF<<RL= 1k
u0(t) = 3V*sin(t), f = 2kHz
3
Berechnung des Stromflußwinkels :
2
1
0.7
tt
0
/2
0
T/2
3/2
2T
mit Siebkondensator CL:
Ladungsspeicherung während Sperrphase
Ausgangsspannung uA(t) bei Leerlauf (RL  ) geht gegen û0-US  2,3V, sonst
periodische Aufladeimpulse im Abstand T und dazwischen Entladung von CL über RL mit der Zeitkonstan-ten
 = RL*CL
Beispiel:CL = 0,1µF
=
uA(t)  0 nach jedem Ladeimpuls
T=
für großes CL z.B. CL = 10µF

prinzipieller Verlauf:
kurze (unsymm.)Stromladeimpulse
geglättete Ausgangsspannung

Glättungsfaktor G proportional
T
IL
Brummspannung UBrSS 
CL * f
u(t)[V]
3
2
1
tt
0
0
/2
T/2
3/2
2T
5/2
BEL
14
Rainer
* Stabilisierung mit Z-Diode:
Stabilisierungsschaltung:
= Meßschaltung zur Ermittlung
des Stabilisierungsfaktors S
Def.: Glättungsfaktor G:
G=
Schaltung:
Z-Dioden ESB für
Durchlaßbereich
UE
UA
Relativer Glättungsfaktor
U E
= Stabilisierungsfaktor S: S = UE
U A
UA
Graphische Bestimmung (für RL  ):
I
mA
aktiver Zweipol: Uo = UE-GL, Ri = RV
passiver Zweipol(nichtl.): Z-Dioden-Kennlinie
Schnittpunkt = Arbeitspunkt AP
Arbeitspunktverschiebung auf der ZD-Kennlinie
gemäß der Änderung der Eingangsspannung UE
  UE
Zur AP-Verschiebung gehörende Änderung der
Ausgangsspannung UA
  UA
UZ0
UE
Berücksichtigung von RL durch
RL
,
RL  RV
Ri’ = RV|| RL
resultierenden aktiven Zweipol: U0’ = U0*
oder Original-Zweipol und
graphischer Ermittlung der Parallelschaltung von Z-Dioden-Kennlinie und RL
Meßtechnisch wird  UE durch eine zusätzliche in Serie geschaltete Wechselspannungsquelle UE-W realisiert.  UE und  UA werden mittels Oszilloskop Als Spitzenwerte UE-W SS und UA-W SS abgelesen.
Rechnerische Lösung:
Ersatz der Z-Diode durch obige Ersatzschaltung und Berechnung des Kreises ( ohne UE-W) nach Kirchhoff
liefert den Zusammenhang zwischen Eingangsspannung UE und Ausgangspannung UA an RL.
dUE UE
 Differentiation
=G

dUA UA
UA
RV
RV
Ergebnis:
G  1+
und
S=
* (1+
)
UE
rZ
rZ
U
V
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