Optische Detektoren Andreas Dreizler und Christof Heeger FG Reaktive Strömungen und Messtechnik Technische Universität Darmstadt Übersicht • • • • • • • Einleitung Sekundärelektronenvervielfacher Pyroelektrischer Detektor Photodiode CCD- und CMOS-Detektoren EMCCD-Detektor Beispielexperiment 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 2 Einleitung • Aufgabe von optischen Detektoren – Wandlung elektromagnetischer Strahlung (Photonen) in elektrische Signale • Unterscheidung nach – Punkt oder Array-Detektoren (1D, 2D) – Zeitauflösung – Quanteneffizienz (wie viel % des einfallenden Lichts werden in elektrische Signale gewandelt) – Sensitiver spektraler Bereich (UV, VIS, NIR, IR) – Dynamik – Zerstörschwelle – Rauschen – Dunkelstrom – ... 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 3 Sekundärelektronenvervielfacher • Prinzip Sekundärelektronenvervielfacher (SEV oder PMT: Photomultiplier) – Photon schlägt Photo-Elektron aus einem Kathodenmaterial (Metall), sofern Grenzfrequenz überschritten ist ( siehe photoelektrischer Effekt) – Herausgeschlagene Elektronen werden auf eine erste Dynode beschleunigt, wo sie Sekundärelektronen herausschlagen – Diese werden auf 2. Dynode beschleunigt usf. Elektronenvervielfachung 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 4 SEV • Prinzip SEV 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 5 SEV • Charakteristika – Hohe Empfindlichkeit und Dynamik – Verstärkungsfaktor bis ~106 – Je nach Kathodenmaterial empfindlich in einem Bereich von UV bis NIR – Kurze Anstiegsflanken im Sub-ns-Bereich möglich, Verschmierung eines kurzen Pulses in der Zeit vorwiegend durch unterschiedliche Wege, die Photo-Elektronen von der Kathode bis zur ersten Dynode zurücklegen 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 6 SEV • Charakteristika (Fortsetzung) – Quanteneffizienz bei ~1 - 10% stark abhängig von Wellenlänge und Typ abhängig – Dunkelstrom wächst nach Richardson-Gleichung gem. I thermisch C1T 2 exp C2 kT Austrittsarbeit der Photoelektronen – Dunkelstrom kann durch Kühlen und kleine Kathodenfläche minimiert werden 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 7 Pyroelektrischer Detektor • Prinzip – Pyroelektrisches Material zwischen 2 Elektroden platziert, das Laserstrahlung absorbiert (Kondensator) – Bei Temperaturänderung ändern sich im pyroelektrischen Material die dielektrischen Eigenschaften – Ist zwischen den Elektroden eine Spannung U angelegt, so ändert sich diese in Abhängigkeit der Dielektrizität – Diese Spannungsänderung wird verstärkt – Pyroelektrische Detektoren sprechen auf zeitliche Änderung an (Temperaturänderung Spannungsänderung) Geeignet, um Energie von Laserpulsen zu messen 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 8 Pyroelektrischer Detektor • Aufbau Q 0 A C U d A : Fläche Kondensator d : Abstand Kondensatorplatten C: Kapazität Q: Ladung (hier konstant) : Dielektrizität 0 : Dielektrizitätskonstante Qd U 0 A ändert sich bei Bestrahlung 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 9 Photodiode • Photodioden sind Halbleiterelemente, die bei Bestrahlung ihre 1. Leitfähigkeit ändern und damit als Photowiderstände verwendet werden (Photoleiter) oder eine 2. Photospannung erzeugen und damit als lichtabhängige Spannungsquellen fungieren (Photovoltaische Detektoren) 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 10 Photodiode • Energiezustände im Silizium (14Si) Energie Aufspaltung 4s Leitungsband 3p im Einzelatom Valenzband im Kristallatom 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 11 Photodiode • Energiezustände im Silizium (14Si) Energie Aufspaltung 4s Leitungsband Eg 3p im Einzelatom Valenzband im Kristallatom 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 12 Photodiode • Energiezustände im Silizium (14Si) Energie Aufspaltung 4s Leitungsband hυ 3p im Einzelatom Eg Valenzband im Kristallatom 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 13 Photoleiter • Vereinfachte Darstellung, passives Element – Absorption eines Photons mit hn>EG hebt Elektron aus Valenz- ins Leitungsband – Dadurch entsteht ein sog. Elektron-Loch-Paar, das die elektrische Leitfähigkeit erhöht (und damit Ohmschen Widerstand vermindert) innerer photoelektrischer Effekt – Absorption bei kleineren Frequenzen durch Dotierung der Halbleiter, die in der Bandenlücke sog. Donatoren-oder Akzeptoren-Zustände schaffen Entstehung von Elektron-Loch Paaren schon bei geringeren Photonenenergien 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 14 Photodiode Phosphor 5 Valenz e- Bor 3 Valenz e- 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 15 Photodiode Phosphor 5 Valenz e- Bor 3 Valenz e- n-Dotierung 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 16 p-Dotierung Photoleiter • Schaltung eines Photoleiters – Spannungsteiler, der Licht-abhängig arbeitet – Photoleiter ist passives Element, das äußere Spannungsquelle benötigt 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 17 Photodiode Phosphor 5 Valenz e- Bor 3 Valenz e- 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 18 Photodiode Phosphor 5 Valenz e- Bor 3 Valenz e- Elektronendiffusion 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 19 Photodiode Phosphor 5 Valenz e- Bor 3 Valenz e- + Raumladung + - Diffusionsspannung Vd 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 20 Photovoltaischer Detektor – Beim Anlegen einer äußeren Spannung ändert sich Feldstrom I und es ergibt sich folgende typische Kennlinie (ohne Beleuchtung) sog. SättigungsDunkelstrom DV0 – Wird nun zusätzlich Licht eingestrahlt, entstehen in der Grenzschicht weitere Elektron-Loch-Paare, wobei Elektronen als Folge der Diffusionsspannung in den n-Bereich und Löcher in den p-Bereich wandern – Die Raumladung ändert sich um den Betrag DV0 (Photospannung) an den offenen Enden des Halbleiters (siehe Bild oben bei I=0) 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 21 Die Photodiode Potential [V] Dotierung: n – Phosphor p – Bor e- L+ + Ladungstrennung e- L+ hυ Länge n Raumladung + >0 I= 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 22 - p Photovoltaischer Detektor – Werden die offenen Enden kurzgeschlossen, so fließt der KurzschlussPhotonenstrom I photonen eA mit e Elementarladung, Quantenausbeute A photoemfindliche Fläche, Intens. Flußdichte hn – Legt man äußere Spannung U an, so wird Gesamtstrom allgemein gegeben durch (Kurvenverlauf vorheriger Grafik) I CT 2 exp eVD exp eU 1 I photonen kT kT – Bei offenem Schaltkreis wird I=0 und man erhält Leerlaufspannung I photonen kT 1 U photonenI 0 DV0 ln e CT 2 exp eVD kT Fazit: Spannungsänderung ist ein Maß für 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 23 Beleuchtungsstärke Photovoltaischer Detektor – Kennlinie: Spannungsänderung (bzw. Stromfluss) als Funktion der Beleuchtungsstärke – Linearität prüfen! 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 24 CCD- und CMOS-Detektoren • CCD: charge coupled devices • CMOS: complimentary metal oxide semiconductor • 1D- oder 2D-Array-Detektoren, linear oder in einer Fläche angeordnete Pixel • Unterscheidung in front- bzw. backside illuminated CCD 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 25 CCD- und CMOS-Detektoren • • • • • Die Photodiode Genereller Aufbau eines CCD CMOS-Architektur CCD vs. CMOS Bildverstärkung 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Institut Prof. Dr. RSM A. Dreizler, | 26 Dipl.-Ing. C. Heeger | 26 Die Photodiode Potential [V] + Ladungstrennung Länge n Raumladung 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 27 p Die Photodiode + n Ladungstrennung Raumladung p 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 28 Genereller Aufbau Länge Potential [V] + ++ Gates Gatebeschaltung H3 Polykristallines Silizium Quarzglas + H1 H2 H3 H1 H2 H3 TX (Transfergate) - - + - - + ++ n(-) 10 µm p(-) p(+) 500 µm (-) schwach dotiert, (+) stark dotiert 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 29 - Belichtung Länge Potential [V] + ++ 1 Pixel (3-phasig) + - - + - - + ++ n(-) e- L+ p(-) p(+) (-) schwach dotiert, (+) stark dotiert 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 30 - Blooming – Übersprechen auf Nachbarpixel Länge Potential [V] + ++ + - - + - - + ++ n(-) e- L+ p(-) p(+) (-) schwach dotiert, (+) stark dotiert 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 31 - Ladungstransfer Länge Potential [V] + ++ + - - + - - + ++ n(-) p(-) p(+) (-) schwach dotiert, (+) stark dotiert 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 32 - Ladungstransfer Länge Potential [V] + ++ + + - + + - + + ++ n(-) n(+) Abtastknoten (sense node) n(+) p(-) p(+) (-) schwach dotiert, (+) stark dotiert 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 33 - Ladungstransfer Länge Potential [V] + ++ + + - + + - + + ++ n(-) n(+) p(-) p(+) (-) schwach dotiert, (+) stark dotiert 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 34 - Ladungstransfer Länge Potential [V] + ++ +/- + - +/- + - +/- + ++ n(-) n(+) p(-) p(+) (-) schwach dotiert, (+) stark dotiert 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 35 - Ladungstransfer Länge Potential [V] + ++ - + - - + - - + ++ n(-) n(+) p(-) p(+) (-) schwach dotiert, (+) stark dotiert 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 36 - Blooming bei zu steiler Flanke Länge Potential [V] + ++ - + - - + - - + ++ n(-) n(+) p(-) p(+) (-) schwach dotiert, (+) stark dotiert 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 37 - Ausleseelektronik Länge - Ladungsmenge sehr gering Potential [V] + ++ [V] Reset-Schalter + + - + + - + + Ausgangsverstärker n(+) n(-) p(-) Messsignal U [V] p(+) (-) schwach dotiert, (+) stark dotiert 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 38 - Der Feldeffekttransistor ID UGS5 Source UGS4 D Gate UGS3 Drain G ID UGS2 UGS1 S S G D D UDS n(-) p(-) p(+) (-) schwach dotiert, (+) stark dotiert 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 39 n(+) n(+) G ID S Der Feldeffekttransistor … als Gleichstromquelle ID UGS5 UGS4 UGS3 Gleichstromquelle UGS = konst. UDS > UDS,krit. ID = konst. variabler Widerstand D G ID UGS2 IGS2 UGS1 S S G D D UDS n(-) p(-) p(+) (-) schwach dotiert, (+) stark dotiert 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 40 n(+) n(+) G ID S Der Feldeffekttransistor … als Source Folger ID UGS5 UGS4 UGS3 Source Folger ID = konst. UDS > UDS,krit. D G UGS = konst. ID UGS2 IGS2 UGS1 S S G D D UDS n(-) p(-) p(+) (-) schwach dotiert, (+) stark dotiert 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 41 n(+) n(+) G ID S Der Feldeffekttransistor … als Schalter ID UGS5 UGS4 UGS3 Schalter UGS = 0 ID = 0 Schalter ist aus UGS = konst. ID ~ UDS Schalter ist an D G ID UGS2 UGS1 S S G D D UDS n(-) p(-) p(+) (-) schwach dotiert, (+) stark dotiert 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 42 n(+) n(+) G ID S Ausleseelektronik FET3 Schalter FET2 Source Folger VREF VDD Reset-Schalter RS Ausgangsverstärker n(+) n(+) Messsignal U [V] VOUT VBIAS FET1 Gleichstromquelle 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 43 FET1 sorgt als Gleichstromquelle für einen konstanten Strom von Erde nach VDD. Je nach Menge der Ladungsträger auf dem Abtastknoten, stellt sich in FET2 eine Spannung zwischen Abtastknoten und VOUT ein, die die Spannung zwischen VDD und VOUT durch den vorgegebenen Strom steuert. VOUT kann dann gegen Erde abgetastet werden. Durch Schalter FET3 können die Ladungen nach dem Auslesen von VOUT wieder abfließen. Verbesserung der QE UV-Photonen Quanteneffizienz Absorption im Polysilizium-Gate Keine QE VIS-Photonen Keine Abbildung Absorption in der Verarmungszone hohe QE NIR-Photonen Gute Abbildung Absorption im Substrat geringe QE Schlechte Abbildung @ 532nm ~50% Reset-Schalter Ausgangsverstärker n(-) n(+) p(-) Messsignal U [V] p(+) (-) schwach dotiert, (+) stark dotiert 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 44 - Verbesserung der Quanteneffizienz Back Side Thinning Ätzen des Substrates Beleuchtung der Rückseite Keine Absorption in den Gates Höchste QE, auch im UV Coating Aufdampfen einer dünnen Schicht ~1µm Absorption von UV in Schicht Re-emission von VIS-Photonen Erweiterte QE im UV Reset-Schalter Ausgangsverstärker n(+) n(-) p(-) Messsignal U [V] p(+) Quanteneffizienz @ 532nm ~95% 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 45 - Quanteneffizienz (QE) • Quanteneffizienzen verschiedener state-of-the-art frontside illuminated CCDs 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 46 Verbesserung der QE • QE verschiedener backside illuminated CCDs (Bezeichnung in Grafik BU und BV) 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 47 - Einfacher Linearsensor Aluminium n(+) n(-) p(-) p(+) Reset-Schalter transparente gates abgeschirmte gates sense node Ausgangsverstärker Messsignal U [V] Ansicht von oben 1 Pixel (3-phasig) 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 48 H1 H2 H3 TX Full Frame CCD p(+) Sperrschicht 1 Pixel (3-phasig) Reset-Schalter Ausgangsverstärker Messsignal U [V] V1 V2 V3 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 49 H1 H2 H3 TX Frame Transfer CCD V1up V2up V3up Reset-Schalter Ausgangsverstärker V1 V2 V3 Messsignal U [V] H1 H2 H3 TX 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 50 Bemerkungen zur Dynamik • Jedes Pixel wird in Abhängigkeit der lokalen Bestrahlung elektrisch geladen (Ladung Q) • Pro Pixel gibt es eine maximale Kapazität, die vor allem von den Abmessungen des Pixels abhängen (typische Werte 20x20 µm) • Diese maximale Kapazität wird als linear full well bezeichnet, typische Werte liegen zwischen 50.000 und 800.000 e• Auf jedem Pixel existiert auch Rauschen, vor allem Ausleserauschen und sog. Photonenrauschen • Dieses Rauschen limitiert den echten dynamischen Bereich i.d.R. unter die bei der Digitalisierung eingesetzte Dynamik (bis zu 16 bit) 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 51 Bemerkungen zur Dynamik • Beispiel – Linear full well 200.000 e- maximales Signal – Ausleserauschen 10 e - rms (Photonenrauschen wird an dieser Stelle der Einfachheit halber nicht berücksichtigt, außerdem sei Dunkelstrom auch vernachlässigbar – dies gilt vor allem bei kurzen Belichtungszeiten und gekühltem CCD) minimales Signal – Echte Dynamik = maximales Signal/minimales Signal 200000 Dynamik 20000 214,3 14 bit 10 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 52 Signal-Rausch Verhältnis (SNR) • Bemerkungen zum Signal-Rausch-Verhältnis (SNR) – Rauschen berechnet sich aus Anteil Dunkelstrom, Ausleserauschen und Photonen(Signal)rauschen Rauschen Ausleserauschen 2 Dunkelstromrauschen 2 Photonenrauschen 2 – Bei kurzen Belichtungszeiten ist Rauschen des Dunkelstroms vernachlässigbar – Bei hohen Signalen ist Ausleserauschen auch vernachlässigbar, dann gilt mit Zahl der Ladungsträger N (proportional zu Photonenzahl) auf einem bestimmten Pixel Rauschen N – Für Signal gilt Signal N SNR: SNR N N N – Bei geringen Signalintensitäten spielt aber immer auch das Ausleserauschen eine Rolle 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 53 CMOS Schematischer Aufbau eines CMOS Pixel Reset-Schalter Ausgangsverstärker Messsignal U [V] TX 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 54 ReihenWahlschalter CMOS Aufbau eines CMOS Pixel Transistoren auf dem Pixel reduzieren den Asensitive Füllfaktor Apixel Mikrolinsen werden genutzt, um das einfallende Licht auf die photosensitive Zone zu lenken 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 55 CMOS VREF VDD RS VREF VDD VREF VDD RS RS ROW select TX VREF VDD RS TX TX VREF VDD VREF VDD RS RS ROW select TX VBIAS TX VBIAS TX VBIAS COLUMN select Multiplexer 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 56 VOUT CCD vs. CMOS + CMOS • einstellbarer aktiver Bereich • schnelles paralleles Auslesen - CMOS • Räumliche Inhomogenitäten wegen Fertigungstoleranzen in einzelnen Pixeln • Offset • Nichtlineare Kennlinie 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 57 CCD vs. CMOS CCD CMOS Pixelhomogenität sehr gut ein Ausgangsverstärker Mittelmäßig ein Verstärker pro Pixel SignalRauschVerhältnis Gut – ohne Kühlung Sehr gut – mit Kühlung Mittelmäßig Viel Elektronik auf kleinem Raum (thermische Einflüsse) Geschwindigkeit Langsam alle Ladungen werden zu einem Ausgangsverstärker geschoben (~ 10 Hz) Sehr schnell Auswertungselektronik auf jedem Pixel (~ 600 kHz) Arbeitspunkteinstellung Höher Arbeitspannung, größerer Regelbedarf Konstant, niedrige Arbeitsspannung über alle Betriebsbereiche Fensterung Begrenzt möglich Einfach realisierbar Blooming ja nein 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 58 Bildverstärkung • Prinzip der Restlichtverstärkung Messobjekt hν e- Photokathode Multi Channel Plate e- Hochspannung • MCP arbeitet nach dem Prinzip der Sekundärelektronenvervielfachung Gain = 40 % Gain = 50 % Gain = 65 % 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 59 hν Phosphor Kamerachip EMCCD (electron multiplying CCD) • Teils Alternative zu intensivierten Systemen • Besonderheit – Ladungsverstärkung findet nicht in einem MCP vor der CCD/CMOS statt, sondern zwischen Verschieberegister und Vorverstärker in einem speziellen Verstärkungsregister 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 60 EMCCD – Im Verstärkungsregister (bestehend aus den Elektroden R1, R2, R3, s. Bild nächste Folie) können sehr große Potentialdifferenzen im Unterschied zu normalen Schieberegistern erzeugt werden, die keine so hohe Potentialdifferenzen zwischen den Elektroden aufweisen – Wird ein Elektron in einen tiefen Potentialtopf verschoben kommt es zu dem sog. Avalanche-Effekt (→ impact ionization) und damit zur Erzeugung neuer Elektronen – Verstärkungsfaktor liegt pro Pixel-Übergang bei ca. 1,015, ist also gering – Daher wird der Prozess häufig wiederholt (~ mehrere 100 mal), um große Verstärkungsfaktoren von bis zu 1000 zu erhalten 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 61 EMCCD • Veranschaulichung des Avalanche-Effektes im Verstärkungsregister Verschieben Verstärken • Typische Quanteneffizienz 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 62 EMCCD • Vorteile – Während ICCD in Folge zu hoher Strahlungsbelastung relativ leicht zerstört werden kann, kann dies bei EMCCD nicht passieren – Bei Kleinsignalen kann bei konstantem Ausleserauschen die Ladungsmenge verstärkt werden und damit das Signal-RauschVerhältnis verbessert werden 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 63 Beispiel (1/3) • High Speed OH-PLIF – Planare Laser-induzierte Fluoreszenz – Verbrennungsradikal OH: Flammenfrontmarker – 10 kHz Aufnahmerate (Laser und Kamera) 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 64 Beispiel (2/3) • TECFLAM Drallbrenner – Methan/Luft vorgemischt – NOX Reduktion – Problem: Flammenrückschlagen Flammeneigenleuchten 10.000 fps High Speed CMOS Kamera mit Bildverstärker 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 65 Beispiel (3/3) • Ziel der Untersuchungen – Messtechnik innerhalb der Düse testen – Hinweise auf Mechanismus des Flammenrückschlags finden – Flammenrückschlag unterdrücken Flammeneigenleuchten 10.000 fps OH-PLIF 5.000 fps Flammenstruktur in Wandnähe Flammenfortschritt entgegen Hauptströmungsrichtung sichtbar Übereinstimmung mit Theorie über Flammen in Wirbelröhren Hinweis auf lokale Tiefdruckgebiete Unterstützt Strömungsablösung in Wandgrenzschicht 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 66 Werbung • Bachelor und Master Theses – Interessante optische Messtechniken • Laser-induzierte Fluoreszenz • Particle Image Velocimetry • Thermografische Phosphoren • Raman / Rayleigh Spektroskopie • … – Interessante Untersuchungsobjekte • Gasturbinen Brennkammer • Optischer Motor Bei Interesse meldet Euch • Wandnahe Verbrennung direkt bei uns! • … 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 67 Ende Geschafft! 19. Mai 2011 | Fachbereich MB | Prof. Dr. A. Dreizler, Dipl.-Ing. C. Heeger | 68