394956_Fraunhofer Institut ISIT prüft smarttin® auf Herz und Nieren

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Bericht / Projekte
394956
Lötbarkeit von chemisch verzinnten Leiterplatten (smarttin®) nach
verschiedenen Stresssimulationen und Lagerungszuständen (Echtzeit)
Inhaltsverzeichnis
1.
2.
3.
4.
5.
6.
7.
8.
Einleitung
Untersuchungsobjekt (Leiterplatten)
Wellenlötsimulation an gealterten Leiterplatten
Reflowlötsimulation an gealterten Leiterplatten
Rasterelektronenmikroskopie und EDX-Analyse
Coulometrische Messungen
Löten von SMD-Bauteilen
Zusammenfassung
1. Einleitung
Die vorliegende Untersuchung dient der Bestimmung der Lötbarkeit von
Reinzinnoberflächen nach verschiedenen Belastungssimulationen und durch
Wiederaufarbeitung der Lötoberfläche mittels Nachverzinnen (Refresh). In der
Untersuchung sollen Unterschiede im Benetzungsverhalten herausgearbeitet
werden und die Wirksamkeit des Refresh-Prozesses nachgewiesen werden.
Die Proben waren einer Echtzeitlagerung von 6 bzw. 12 Monaten unter
Normalatmosphäre und beschleunigten Alterungsprozessen unter trockner und
feuchter Wärme ausgesetzt.
Die Echtzeitlagerung fand in den Räumlichkeiten der APL Oberflächentechnik
GmbH in Lörrach statt. Die Testleiterplatten wurden ohne spezielle
Folienverpackung oder Klimatechnik gelagert. Sie waren den natürlichen
Temperaturschwankungen und klimatischen Einflüssen vom Mai 2008 bis Juli
2009 ausgesetzt. Die Untersuchungen wurden am Fraunhofer ISiT im Zeitraum
von August 2009 – September 2009 durchgeführt.
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2. Untersuchungsobjekt (Leiterplatten)
Es wurde eine Musterplatine (Bilder 2.1 – 2.2) erstellt, die im Vorfeld der
Untersuchung verschiedene Zustände aufwies.
Bild 2.1: Leiterplatte – �Reflowlötseite“
Bild 2.2: Leiterplatte - Wellenlötseite
Folgende Zustände wurden durch die Fa. APL Oberflächentechnik GmbH
geliefert:
Nr.
Zustand
Verzinnungsdatum
11/08
Schichtdicke
1
1/2 Jahr gelagert
2
1/2 Jahr gelagert + refreshed
01/09
1,15 µm
3
1 Jahr gelagert
05/08
0,89 µm
4
1 Jahr gelagert + refreshed
06/08
1,16 µm
5
Frisch
07/09
0,86 µm
6
Refreshed
07/09
1,09 µm
Röntgenfluoreszenz
0,89µm
Optisch sind die Leiterplattenoberflächen der verschiedenen Alterungszustände
nicht wirklich zu unterscheiden. Bei den gelagerten Leiterplatten gibt es jedoch
bei einzelnen, wenigen Platinen lokale Verfärbungen einzelner Pads und
Durchkontaktierungen (Bild 2.3). Auf die Verarbeitung dieser sichtbar verfärbten
Leiterplatten wurde verzichtet.
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Bild 2.3: Verfärbungen der Reinzinnoberfläche – selten beobachtet
Die Ursache der Verfärbung liegt offensichtlich darin begründet, dass die
Leiterplatten nicht verpackt waren.
3. Wellenlötsimulation an gealterten Leiterplatten
Um eine schnellere Differenzierung der Probanten zu erhalten, wurde zu Beginn
eine Wellenlötsimulation gewählt. Die Wellenlötung offenbart Schwachstellen
hinsichtlich Benetzung in der Regel deutlicher als die Reflowlötung. Für die
Wellenlötversuche wurde die Wellenlötanlage vom Typ ERSA N-Wave 330
verwendet. Die Lötversuche wurden unter Stickstoff durchgeführt.
Bild 3.1: ERSA N-Wave 330
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Zunächst wurde eine frische Leiterplatte (Charge 5) im Wellenlötprozess gelötet.
Folgende Parameter wurden für den Wellenlötprozess gewählt:
Lot:
Flussmittel:
Temperatur:
Vorheizung Konvektion:
Vorheizung IR:
Vorheizung Hellstrahler:
Aktivierungstemperatur:
SAC305 (SnAg3,0Cu0,5)
Cobar 323ITM, No Clean, Feststoffanteil: 2.27%
Klasse 1.2.2.A
nach ISO 9454-1
Klasse REL1
nach IPC-ANSI-J-STD-004
Klasse 1.2.3.N_II
nach JIS Z 3197
265°C
120°C
300°C
60/40/50/60
130°C
Durchlaufgeschwindigkeit:
Benetzungslänge Vorwelle:
Benetzungslänge Hauptwelle:
Rotorgeschwindigkeit Welle 1:
Rotorgeschwindigkeit Welle 2:
Fluxauftrag:
110cm/min
1,5-2cm
4cm
370 1/min
460 1/min
7/14
(Leiterplattenoberseite nach Vorheizung)
Bei der Wellenlötung wurden im Ausgangszustand (Zustände 1-6) alle
erreichbaren Padflächen/Durchkontaktierungen sowohl auf der Wellenlötseite als
auch auf der Reflowlötseite vollständig benetzt. Das bezieht sich auf alle
getesteten Prüflinge. In den Bildern 3.2 und 3.3 sind die vollständig benetzten
Reflowlötseiten dargestellt. Das Lot ist in der Lage, auch das bauteilseitige
Lötauge vollständig zu benetzen.
Bild 3.2: Leiterplatte – �Reflowlötseite“ nach
Wellenlötung im Ausgangszustand
Bild 3.3: Leiterplatte - �Reflowlötseite“ nach
Wellenlötung im Ausgangszustand
Die Leiterplatten wurden im Anschluss zur zusätzlichen Belastung weiteren
Alterungsschritten unterzogen.
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Dazu wurden die Leiterplatten der 6 Chargen einem 3 fachen Reflowlötprofil
(~245°C Peak) ausgesetzt. Das Lötprofil zur Alterun g der Proben entspricht dem
Reflowlötprofil in Bild 4.3 (Kapitel 4). Nach dieser Beanspruchung wurden diese
erneut in dem oben beschriebenen Wellenlötprozess gelötet, um das
Benetzungsverhalten darzustellen. Auf der Wellenlötseite sind wiederum alle Pads
vollständig benetzt. Lediglich auf der gegenüberliegenden Seite erkennt man
Differenzierungen im Lotflussverhalten. Die bauteilseitigen Lötaugen sind jetzt
nicht mehr vollständig benetzt (Bilder 3.4-3.9). Der Lotdurchstieg beträgt aber
dennoch 100% (Hülsenfüllung) und erfüllt somit die Forderungen entsprechend
IPC-A610D. Diese fordert für gelötete Anschlüsse einen Mindestdurchstieg von
75%. Wenn sich in den Durchkontaktierungen noch Anschlussdrähte befinden
und diese gut benetzbar sind, sollte die zusätzliche Kapillarwirkung den
Lotdurchstieg noch befördern. Zwischen den einzelnen Chargen erkennt man nur
geringfügige Unterschiede. Die Refresh-Proben zeigen sehr vereinzelt vollständig
benetzte Lötaugen auf der Bauteilseite (Bilder 3.5, 3.7, 3.9).
Bild 3.4: Charge (1) �1/2 Jahr gelagert“ nach 3 x
Reflow und Benetzung durch
Wellenlötung
Bild 3.5: Charge (2) �1/2 Jahr gelagert +
refreshed“ nach 3 x Reflow und
Benetzung durch Wellenlötung
Bild 3.6: Charge (3) �1 Jahr gelagert“ nach 3 x
Reflow und Benetzung durch
Wellenlötung
Bild 3.7: Charge (4) �1 Jahr gelagert + refreshed“
nach 3 x Reflow und Benetzung durch
Wellenlötung
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Bild 3.8: Charge (5) �frisch“ nach 3 x Reflow und
Benetzung durch Wellenlötung
Bild 3.9: Charge (6) �refreshed“ nach 3 x Reflow
und Benetzung durch Wellenlötung
Um eine stärkere Differenzierung zwischen den Prüflingen (1-6) zu erreichen
wurde in einem weiteren Schritt die Belastung der Proben erhöht. Dazu wurden
die Behandlungen 2-6 durchgeführt:
•
•
•
•
•
Behandlung 2: 6x Reflow
Behandlung 3: Feuchte Wärme (60°C, 87% rLF, 24h) + 6x Reflow
Behandlung 4: Feuchte Wärme (60°C, 87% rLF, 80h)
Behandlung 5: Feuchte Wärme (60°C, 87% rLF, 80h) + 6x Reflow
Behandlung 6: Feuchte Wärme (60°C, 87% rLF, 168h) + 6x Reflow
Als Bewertungskriterien wurden nicht benetzte Pads auf der Lötseite und ein
unvollständiger Lotdurchstieg in der Hülse vergewandt (IPC-A610D). Die
Ergebnisse sind in den Tabelllen 1-5 zu finden.
Behandlung 2:
6xReflow
(1)
1/2 Jahr gelagert
11/08
0
Bauteilseite –
unvollständiger
Durchstieg
0/132
(2)
1/2 Jahr gelagert +
refreshed
01/09
4
0/132
(3)
1 Jahr gelagert
05/08
0
0/132
(4)
1 Jahr gelagert + refreshed
06/08
0
0/132
(5)
Frisch
07/09
0
0/132
(6)
Refreshed
07/09
0
0/132
Zustand
Verz.Datum
Lötseite –
nicht benetzte Pads
Tabelle 1
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Behandlung 3:
Feuchte Wärme (60°C, 87% rLF, 24h) + 6xReflow
(1)
1/2 Jahr gelagert
11/08
3
Bauteilseite –
unvollständiger
Durchstieg
59/132
(2)
1/2 Jahr gelagert +
refreshed
01/09
1
22/132
(3)
1 Jahr gelagert
05/08
0
3/132
(4)
1 Jahr gelagert + refreshed
06/08
0
0/132
(5)
Frisch
07/09
0
0/132
(6)
Refreshed
07/09
0
0/132
Zustand
Verz.Datum
Lötseite –
nicht benetzte Pads
Tabelle 2
Behandlung 4:
Feuchte Wärme (60°C , 87% rLF, 80h)
(1)
1/2 Jahr gelagert
11/08
2
Bauteilseite –
unvollständiger
Durchstieg
0/132
(2)
1/2 Jahr gelagert +
refreshed
12/08
5
0/132
(3)
1 Jahr gelagert
05/08
7
1/132
(4)
1 Jahr gelagert
+ refreshed
06/08
4
0/132
(5)
Frisch
07/09
15
0/132
(6)
Refreshed
07/09
3
0/132
Zustand
Verz.Datum
Lötseite –
nicht benetzte Pads
Tabelle 3
Behandlung 5:
Feuchte Wärme (60°C , 87% rLF, 80h) + 6xReflow
(1)
1/2 Jahr gelagert
11/08
8
Bauteilseite –
unvollständiger
Durchstieg
15/132
(2)
1/2 Jahr gelagert +
refreshed
01/09
10
2/132
(3)
1 Jahr gelagert
05/08
3 (22) **
75/132
(4)
1 Jahr gelagert
+ refreshed
06/08
4 (1) **
11/132
(5)
Frisch
07/09
3
36/132
(6)
Refreshed
07/09
10
0/132
Zustand
Tabelle 4
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Verz.Datum
Lötseite –
nicht benetzte Pads
** Wert in der Klammer: echte Benetzungsdefizite auf Lötseite
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Behandlung 6:
Feuchte Wärme (60°C, 87% rLF, 168h) + 6xReflow
Zustand
Verz.Datum
Lötseite –
nicht benetzte Pads
jeweils 2 Proben
Bauteilseite –
unvollständiger
Durchstieg
13/132 - 121/132
(1)
1/2 Jahr gelagert
11/08
13 - 2
(2)
1/2 Jahr gelagert +
refreshed
12/08
5 - 11
36/132 - 34/132
(3)
1 Jahr gelagert
05/08
7 - BD
125/132 - 132/132
(4)
1 Jahr gelagert
+ refreshed
06/08
LBD - LBD
111/132 - 101/132
(5)
Frisch
07/09
SBD - BD
132/132 - 132/132
(6)
Refreshed
07/09
LBD - LBD
22/132 - 132/132
Tabelle 5
LBD … leichte Benetzungsdefizite, BD … Benetzungsdefizite, SBD … starke Benetzungsdefizite
Die Ergebnisse in den Tabellen zeigen folgendes Bild: Die nicht benetzten Pads
auf der Lötseite sind zumeist zufällig – Ursache ist zum einen die eingeschränkte
Benetzungsfähigkeit durch die Alterung als auch geometrische Gegebenheiten
der Pads (Durchmesser, Lötstopplackhöhe, etc.). Man erkennt, dass mit
steigender Alterungsbelastung die nichtbenetzten Pads häufiger werden,
allerdings ist keine klare Zuordnung zu den Ursprungszuständen 1-6 mehr zu
erkennen. Die nachfolgende Alterungsbelastung (feuchte/trockene Wärme) prägt
das Benetzungsverhalten offenbar deutlicher als die Vorgeschichte (Lagerzeiten,
Refresh-Zustand).
Ab Behandlung 5 erkennt man neben den eher zufälligen Nichtbenetzungen
einzelner Pads auch deutliche Benetzungsdefizite in Form von unvollständig
benetzten Pads. Hier ist eine klare Verschlechterung der Benetzungsfähigkeit
vorhanden. Das zweite Kriterium (unvollständiger Durchstieg auf der Bauteilseite Bilder 3.10-3.11) zeigt ebenfalls eine Zunahme der Benetzungsdefizite mit
steigender Alterungsbelastung .
Bild 3.10: unvollständig gefüllte Hülse (<100%)
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Bild 3.11: zum Teil keinerlei Füllung der Hülse
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In den Tabellen 1-5 ist angegeben, wie viele Durchkontaktierungen nicht
vollständig gefüllt wurden (Referenz: 132 DKs). Auch hier erkennt man den
starken Anstieg von Benetzungsfehlern ab Behandlung 5 (Feuchte Wärme + 6x
Reflow).
Die Auslagerung in feuchter Wärme für 80h (Behandlung 4) und die 6-malige
Reflowbelastung (Behandlung 2) hält die Reinzinnoberfläche erstaunlich gut aus.
Es liegt zwar keine identische Untersuchung mit anderen chemisch ZinnOberflächen vor, dennoch überrascht die Robustheit der Oberfläche gegenüber 6
maliger Reflowbelastung positiv.
Mit den Behandlungen 5 und 6 sollte die Oberfläche �tot gealtert“ werden, was im
Fall von Behandlung 6 auch gut gelungen ist.
Um die Wirksamkeit des Refresh-Prozesses einschätzen zu können, wurde eine
�tot gealterte“ Zinn-Oberfläche durch Nachverzinnen aufgearbeitet.
In Tabelle 6 erkennt man eine deutliche Verbesserung des Benetzungsverhaltens.
Behandlung 7:
Feuchte Wärme (60°C, 87% rLF, 168h) + 6xReflow + Refresh
jeweils 2 Proben
Zustand
Verz.Datum
Schichtdicke
X-Ray [µm]
Lötseite –
nicht benetzte Pads
(1)
1/2 Jahr gelagert
11/08
1,27
6 - 4
(2)
1/2 Jahr gelagert +
refreshed
12/08
1,42
14 - 14
0/132 - 0/132
(3)
1 Jahr gelagert
05/08
1,22
4 - 13
0/132 - 0/132
(4)
1 Jahr gelagert
+ refreshed
06/08
1,39
1 - 5
0/132 - 0/132
(5)
Frisch
07/09
1,21
13 - 8
0/132 - 0/132
(6)
Refreshed
07/09
1,39
12 - 18
0/132 - 0/132
Bauteilseite –
unvollständiger
Durchstieg
0/132 - 0/132
Tabelle 6
Bei allen 6 Chargen ist der Lotdurchstieg nach dem Refresh-Prozess wieder
vollständig vorhanden.
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4. Reflowlötsimulation an gealterten Leiterplatten
Für die Reflowlötversuche wurde die Schutzgas- Lötanlage vom Typ Rehm V8
Nitro 2.6B verwendet (Bild 4.1). Der Reflowlötofen besteht aus 4 Vorheiz-, 2 Peakund 2 Kühlzonen.
Bild 4.1: Rehm V8 Nitro 2.6B
Die Leiterplatten wurden mit einem Lotpastendrucker vom Typ DEK Horizon 02i
bedruckt (Bild 4.2).
Bild 4.2: DEK Horizon 02i
Als Druckmedium wurde die Lotpaste Heraeus F640 SAC305-M30
(Legierungszusammensetzung: Sn96,5/Ag3/Cu0,5) verwendet. Die
Flussmittelaktivität beträgt entsprechend J-STD-004 dem Wert L0.
Die Schablonenöffnungen wurden bewusst kleiner gewählt, damit die Lotpaste
beim Aufschmelzen auf dem Pad signifikant ausfließen kann.
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Damit ein Ausfließen der Lotpaste begünstigt wird, wurde eine relativ große
Schablonendicke (Schablone: Edelstahl, gelasert) von 200µm gewählt. In den
Bildern 4.3 und 4.4. sind die gedruckten Lotdepots gezeigt.
Bild 4.3: gedruckte Lotpaste (200µm dick, deutlich
reduzierte Schablonenöffnung)
Bild 4.4: gedruckte Lotpaste (200µm dick, deutlich
reduzierte Schablonenöffnung)
Für die Umschmelzversuche wurde ein bleifreies Lötprofil mit einer
Peaktemperatur von ca. 245°C unter Stickstoffatmosp häre verwendet (Bild 4.5)
Bild 4.5: verwendetes Lötprofil
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Hierbei handelt es sich um ein Standardprofil für das bleifreie Reflowlöten (gemäß
IPC 7095B) als Deiecksprofil.
Auch beim Reflowlöten kann deutlich gezeigt werden, dass der Refresh- Prozess
sehr wirksam ist. In den Bildern 4.6 - 4.9 ist der deutliche Unterschied im
Benetzungsverhalten zu erkennen.
Bild 4.6: Reflowlötprozess: Benetzung nach 168 h
feuchter Wärme + 6x Reflow
Bild 4.7: Reflowlötprozess: Benetzung nach 168 h
feuchter Wärme + 6x Reflow + Refresh
Bild 4.8: Reflowlötprozess: Benetzung nach 168 h
feuchter Wärme + 6x Reflow
Bild 4.9: Reflowlötprozess: Benetzung nach 168 h
feuchter Wärme + 6x Reflow + Refresh
Die durch �Refresh“ nachbehandelten Leiterplatten zeigen eine vollständige
Benetzung der Padflächen (Bilder 4.7, 4.9). Die in Bild 4.7 gezeigten
Unregelmäßigkeiten auf der Lotoberfläche sind keine Benetzungsfehler, sondern
sind lediglich oberflächliche Effekte (Flussmittelrückstände).
Die �totgealterten“ Leiterplatten hingegen zeigen zwar noch eine Benetzung durch
das Lot, ein signifikanter Lotfluss kommt verständlicherweise jedoch nicht mehr
zustande (Bilder 4.6, 4.8). Die Oxidation der Zinnschicht auf den Padoberflächen
verhindert ein weiteres Ausfließen des Lotes.
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Trotz der extremen Alterungsbelastung (168 h feuchte Wärme + 6x Reflow)
benetzt das Lot noch mit einem recht flachen Winkel (< 30°), was auf die hohe
Robustheit der chemisch Zinn-Schicht gegenüber Alterungsbelastungen hinweist.
Das Lotvolumen und die Padoberfläche verbinden sich metallurgisch, d.h. es
entstehen in der Grenzfläche intermetallische Phasen, die die Anbindung
sicherstellen.
Bei völliger Benetzungsunfähigkeit der Leiterplattenoberfläche würde sich das
gedruckte Lot zu einer Kugel zusammenziehen, die keinerlei metallurgische
Verbindung zur Padfläche aufweisen würde.
5. Rasterelektronenmikroskopie und EDX-Analyse
Mittels REM-Inspektion (Rasterelektronenmikroskopie) und EDX – Analyse
(energiedispersive Röntgenanalyse) wurden die Oberflächen verschiedener
Leiterplattenzustände untersucht:
•
•
•
(A) Leiterplatte frisch
(B) Leiterplatte �totgealtert“ (Feuchte Wärme + 6x Reflow)
(C) Leiterplatte �totgealtert“ (Feuchte Wärme + 6x Reflow) + Refresh
(Nachverzinnen)
Zur Untersuchung wurde ein Rasterelektronenmikroskop vom Typ Jeol 6400
verwendet (Bild 5.1). Integriert ist ein EDX-Detektor Typ SAM X mit dünnem
Fenster, mit dem Elemente ab Ordnungszahl 5 (Bor) detektiert werden können.
Bild 5.1: Rasterelektronenmikroskop Jeol 6400
Die Ergebnisse der Oberflächenuntersuchung sind in den Bildern 5.2 – 5.10 zu
sehen. Man erkennt signifikante Unterschiede zwischen den 3 verschiedenen
Zuständen.
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Zunächst erkennt man optische Unterschiede zwischen den Zuständen A – C
(Bilder 5.3, 5.6, 5.9). Die frische Leiterplatte (A) weist eine raue, aber recht
homogene Oberfläche auf (Bild 5.3). Durch die massive Alterung (Feuchte Wärme
+ 6x Reflow) verändert sich die Oberfläche optisch geringfügig. Es entstehen zum
Teil spitzere Strukturen (Bild 5.6). Durch die Alterung wachsen die aufliegende
Oxidschicht und die innenliegende intermetallische Phase.
Die Zunahme der Oxidschicht hat keinerlei Auswirkungen auf die Topografie der
Oberfläche, da die Schichtdicken der Oxide (Angström-Bereich) viel zu gering
sind. Somit muss die Phasenbildung die Oberflächentopografie entsprechend
verändern.
Bild 5.2: Zustand (A) - Übersicht
Bild 5.3: Zustand (A) - Detail
Bild 5.4: Zustand (A) – EDX-Spektrum
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Das Phasenwachstum (CuSn-Phase) führt zu einer Zerklüftung der Oberfläche –
einzelne Phasenteilchen ragen aus der dünnen Zinnschicht heraus (Bild 5.9).
Diese Phasenteilchen sind deutlich schlechter benetzbar als die
Reinzinnoberfläche, sodass die Gesamtoberfläche immer mehr an
Benetzungsfähigkeit einbüßt. Die erhöhte Rauigkeit der gealterten Oberfläche
führt wiederum zur Vergrößerung der effektiven Oberfläche und damit zu stärkerer
Oxidation.
Die Zunahme des oxidischen Anteils an der Oberfläche ist mit der
energiedispersiven Röntgenanalyse (EDX) nicht vernünftig sichtbar (Bilder 5.4,
5.7, 5.10), da diese nicht entsprechend oberflächen-sensitiv messen kann.
Bild 5.5: Zustand (B) - Übersicht
Bild 5.6: Zustand (B) - Detail
Bild 5.7: Zustand (B) – EDX-Spektrum
Unterschiede sind jedoch im Kupfergehalt in Oberflächennähe erkennbar. Die
frische Leiterplatte (A) enthält relativ wenig Kupfer, da die intermetallische Phase
noch signifikant durch die Zinnschicht abgedeckt ist.
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Die gealterte Leiterplatte (B) zeigt deutlich stärkere Kupfer – Peaks an. Das ist
das Indiz dafür, dass mehr Kupfer in oberflächennahen Schichten in Form der
intermetallischen Phase (Cu6Sn5) zu finden ist.
Der Gold-Peak in den Spektren rührt von der Probenvorbereitung. Die Proben
werden mit einem Metall (Au) besputtert, um diese leitfähig zu machen. Für die
Bewertung der Spektren ist somit nur das Verhältnis zwischen Zinn (Sn) und
Kupfer (Cu) relevant.
Bild 5.8: Zustand (C) - Übersicht
Bild 5.9: Zustand (C) - Detail
Bild 5.10: Zustand (C) – EDX-Spektrum
Die y- Achse der EDX-Spektren zeigt die Anzahl der Counts (Messpunkte), die im
Prinzip die Länge der Messzeit dokumentieren. Die absoluten y-Werte sind somit
nicht primär wichtig, sondern das Verhältnis zwischen den einzelnen detektierten
Elementen. Je länger die Messzeit und je besser die Zählrate ist, umso glatter
(genauer) werden die Spektren.
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Nach dem Refreshvorgang (Zustand C) erkennt man wieder eine deutliche
Reduzierung des Kupferpeaks (Bild 5.10).
Ursache ist die Abdeckung der intermetallischen Phase durch die
Nachverzinnungsschicht (�Refresh“-Vorgang).
Da es sich hier um einen chemischen Austausch-Vorgang zwischen Kupfer und
Zinn handelt, ist zu vermuten, dass sich das Kupfer aus der intermetallischen
Phase für den Austauschprozess herauslöst.
Die chemisch nachverzinnte Oberfläche weist eine veränderte Topografie aus
(Bild 5.9). Man findet an der Oberfläche kristallförmige Zinn-Partikel. Diese haben
eine Größe von ca. 1-5µm, sind aber nicht ganzflächig vorhanden. Diese Form
hängt möglicherweise mit der Kalottenform der intermetallischen Phasen
zusammen. An den herausstehenden Phasenspitzen steht genügend Kupfer für
den Austauschprozess zur Verfügung, entsprechend wird an diesen Stellen mehr
Zinn abgeschieden.
6. Coulometrische Messungen
Zur weiteren Beschreibung der Oberflächenbeschaffenheit der
Leiterplattenproben wurde eine Couloscope – Messung durchgeführt.
Bild 6.1: Couloscope (FhG IZM)
Das Couloscope verwendet zur Schichtdickenbestimmung die coulometrische
Messmethode (Schichtablösung unter Stromfluss bei geeignetem Elektrolyten).
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Das Couloscope erlaubt exakte Messungen von Metallschichtdicken im Bereich
von ca. 0,05 - 40 µm. Der Vorteil der Messung im Vergleich zur EDX-Analyse als
auch zur Röntgenfluoreszenz X-Ray – Messung ist, dass man direkt die
Reinzinnschichtdicke messen kann.
Folgende Varianten wurden jeweils 3 x coulometrisch vermessen:
(1) 1/2 Jahr gelagert
(2) 1/2 Jahr gelagert + refreshed
(3) 1 Jahr gelagert
(4) 1 Jahr gelagert + refreshed
(5) Frisch
(6) Refreshed
(7) 1 Jahr gelagert + �totgealtert“ (Feuchte Wärme + 6x Reflow)
(8) 1 Jahr gelagert + �totgealtert“ (Feuchte Wärme + 6x Reflow) + Refresh
(Nachverzinnen)
Als messbare Fläche war nur das große Pad verwendbar, da die kleinen Pads für
die Messung nicht kontaktiert werden konnten (Bild 6.2).
Bild 6.2: Messfläche für Couloscope – Messung
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Es wurden folgende Schichtdickenwerte gemessen (Tabelle 7).
Zustand
Datum
Schichtdicke
[µm]
Messung 1-3
[µm]
Couloscope
0,62
0,64
0,60
Mittelwert /
Std.Abw.
[µm]
Couloscope
0,62 / 0,02
Diffusionsschicht
geschätzt
[µm]
0,27
(1)
1/2 Jahr
gelagert
11/08
X-Ray
0,89
(2)
1/2
Jahr gelagert
+ refreshed
12/08
1,19
0,92
0,98
0,97
0,96 / 0,03
0,23
(3)
1 Jahr
gelagert
05/08
0,89
0,54
0,56
0,56
0,55 / 0,01
0,34
(4)
1 Jahr
gelagert
+ refreshed
06/08
1,20
0,93
0,92
0,90
0,92 / 0,02
0,28
(5)
frisch
07/09
0,86
0,65
0,64
0,64
0,64 / 0,00
0,22
(6)
refreshed
07/09
1,09
0,97
0,95
0,94
0,95 / 0,02
0,14
(7)
1 Jahr
gelagert +
�totgealtert“
05/08
(8)
1 Jahr
gelagert +
�tot-gealtert“
+ refreshed
09/09
keine Messung möglich
1,22
0,96
0,98
0,98
0,97 / 0,01
0,25
Tabelle 7: Messwerte der Couloscope – Messung
Die gemessenen Schichtdicken von Couloscope und Röntgenfluoreszenz
variieren, das Couloscope misst ca. 300nm weniger. Dies ist verständlich, da die
Röntgenfluoreszenz-Analyse die gesamte Schicht über dem Kupferpad misst, also
intermetallische Phase und Reinzinnschicht. Das Couloscope misst nur die
Reinzinnschicht über der intermetallischen Phase.
Die Leiterplatte 7 ist mit Couloscope nicht messbar, weil die sich darauf
befindende Passivierungsschicht (Oxidschicht) den Stromfluss negativ beeinflusst.
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Eine EDX-Analyse mit geringer Anregungsspannung bestätigt die äußerst geringe
Reinzinnschichtdicke bei Leiterplatte 7.
7kV;200s
Cu
N O
Sn
C
Sn
0.5
1
1.5
2
Skalenbereich 268 cts Cursor: 5.969 (2 cts)
2.5
3
Sn
Sn
3.5
Sn
Sn
4
Sn
4.5
5
5.5
keV
Bild 6.3: EDX mit geringer Anregungsspannung
Das EDX-Spektrum zeigt mit einer Anregungsspannung von 7kV ein starkes
Kupfersignal – damit liegt die Dicke der Rein-Zinnschicht unter 0,2µm.
Ansonsten wird deutlich, dass alle nachverzinnten Leiterplatten (Refresh)
Schichtdicken von ca. 0,95µm aufweisen. Die größte Schichtdicke hat die zuletzt
nachverzinnte Leiterplatte (8). Es spielt offenbar keine Rolle, dass diese
Leiterplatte zuvor �totgealtert wurde. Der Nachverzinnungsprozess ist auch nach
der extremen Alterungsbelastung genauso effektiv wie vorher. Der
Oxidationszustand der Oberfläche sowie der Phasenanteil an der
Leiterplattenoberfläche haben offensichtlich keinen negativen Einfluss. Bei den
gelagerten Proben erkennt man die Abnahme der Zinnschichtdicke mit der Zeit.
Eine frische Leiterplatte zeigt im Mittel eine Reinzinn-Schichtdicke von 0,64µm,
die ½ Jahr gelagerte Leiterplatte weist 0,62µm und die 1 Jahr gelagerte
Leiterplatte 0,55µm auf. Ein Jahr Echtzeitlagerung entspricht also etwa einer
Abnahme von 0,1µm Reinzinn-Schichtdicke.
Dass die Reinzinnschicht bei der refreshten Leiterplatte (8) am größten ist, ist für
die Benetzungsfähigkeit ein gutes Zeichen. Dies lässt vermuten, dass das Kupfer
aus der Diffusionsschicht (intermetallische Phase) beim chemischen
Austauschprozess beteiligt ist. Die intermetallische Phase würde so zugunsten
einer größeren Reinzinn-Schichtdicke aufgebraucht. Dies ist allerdings bisher nur
eine Hypothese, da das vorliegende Datenmaterial nicht für eine statistisch
sichere Aussage ausreicht.
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7. Löten von SMD-Bauteilen
Um die Wechselwirkung der Leiterplattenoberfläche, Lot und Bauteil zu zeigen,
wurden einzelne SMD-Bauteile auf vorgealterte Leiterplattenoberflächen
aufgelötet. Es wurden 2 Oberflächenzustände für die Prüfung gewählt.
Alterung (1): 1 Jahr gelagert + 2x Reflow
Alterung (2): Feuchte Wärme (60°C, 87% rLF, 168h) + 6xReflow (�totgealtert“) +
Nachverzinnen (Refresh) + 2x Reflow
Lotpastendruck und Reflowlötung erfolgten wie in Kapitel 4 beschrieben und
praktiziert. Nach der Lötung wurden die Lötstellen optisch inspiziert. Die Lötstellen
nach Alterung 1 (1 Jahr gelagert + 2x Reflow) sind in den Bildern 7.1-7.4 und nach
Alterung 2 (�totgealtert“ + Nachverzinnen (Refresh) + 2x Reflow) in den Bildern
7.5-7.8 dargestellt.
Bilder 7.1-7.2: MELF-Bauteil, gelötet nach
Alterung (1)
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Bilder 7.3-7.4: Tantal-ELKO-Bauteil, gelötet nach
Alterung (1)
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Bilder 7.5-7.6: MELF-Bauteil, gelötet nach
Alterung (2)
Bilder 7.7-7.8: Tantal-ELKO-Bauteil, gelötet nach
Alterung (2)
In beiden Fällen kann man trotz der Alterungsbelastungen eine gute Benetzung
der Bauteile erkennen. Aufgrund der deutlich verringerten Schablonenöffnung
beim Lotpastendruck ist das Lotdepot begrenzt. Da auch der Bauteilanschluss
durch das Lot mitbenetzt wird, verbleibt auf der Padfläche nur relativ wenig Lot.
Dies ist aber dennoch genug, um eine stabile Lötverbindung zu erzeugen. Die
Benetzungswinkel zu den Verbindungspartnern sind klein, damit wird eine gute
Lötbarkeit der beiden Verbindungspartner (Bauteilmetallisierung,
Leiterplattenmetallisierung) angezeigt. Erstaunlich ist die gute Benetzbarkeit der
Leiterplatte auch nach 1Jahr Lagerung beim Kunden und der zusätzlichen
doppelten Reflowbelastung vor der eigentlichen Lötung (Alterung 1). Einen
ebenfalls guten Eindruck hinterlässt die �totgealterte“ Leiterplatte nach dem
Refreshvorgang und der doppelten Reflowbelastung vor dem Löten (Alterung 2).
Auch hier findet man keinerlei Benetzungsdefizite.
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Bestätigt wird das durch die Querschliffe durch das Tantal-ELKO-Bauteil
(Bilder 7.9-7.12).
Bilder 7.9: Tantal-ELKO-Bauteil, gelötet nach
Alterung (1)
Bilder 7.10: Tantal-ELKO-Bauteil, gelötet nach
Alterung (1) - Grenzflächen
Bilder 7.11: Tantal-ELKO-Bauteil, gelötet nach
Alterung (2)
Bilder 7.12: Tantal-ELKO-Bauteil, gelötet nach
Alterung (2) - Grenzflächen
In beiden Fällen ist eine einwandfreie Benetzung der Leiterplatte und ein optimaler
Kontakt zum Bauteil zu sehen. Es bilden sich signifikante und durchgängige
intermetallische Phasen in den Grenzflächen aus (Bilder 7.10, 7.12).
Ein Unterschied zwischen den Zuständen (1) und (2) ist nicht zu sehen.
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8. Zusammenfassung
Zusammenfassend kann man folgende Erkenntnisse aus den Untersuchungen
gewinnen:
•
•
•
•
•
•
•
•
•
die Oberflächenmetallisierung der Leiterplatte ist sehr robust gegenüber
moderaten klimatischen Belastungen (trockene und feuchte Wärme)
übliche Lötbelastungen (2-3x Reflow nach vorheriger 6 bzw. 12 monatiger
Echtzeitlagerung) werden ohne signifikante Benetzungsdefizite gut
überstanden
bei den künstlich gealterten Proben ist eine leichte Verschlechterung bei
der Benetzung von Durchkontaktierungen im Vergleich zu den ungealtert
Proben erkennbar
6 Reflowdurchgänge und moderate feuchte Belastung (80h) jeweils als
Einzelbelastung führen noch zu keiner signifikanten Verschlechterung der
Benetzungsqualität (gemäß IPC A-610D)
eine kombinierte Belastung (feuchte Wärme und anschließend trockene
Wärme) erscheint kritischer und führt zu signifikanten Benetzungsdefiziten
der Nachverzinnungsvorgang (Refresh) ist sehr effektiv, eine �totgealterte“
Leiterplatte konnte wieder in einen gut lötbaren Zustand versetzt werden
der Refresh-Vorgang erhöht die Gesamt-Schichtdicke (intermetallische
Phase + Reinzinnschicht), wobei der Zuwachs wohl ausschließlich einem
Reinzinnauftrag zuzurechnen ist
das Löten von Bauteilen nach einer realitätsnahen Alterung (1 Jahr
Echtlagerung in Produktionsumgebung) ist ohne Schwierigkeiten möglich,
die Reinzinn- Schichtdicke verringert sich etwa um 15-20%
die gemessenen Schichtdicken von Couloscope und Röntgenfluoreszenz
sind verständlicherweise unterschiedlich, das Couloscope misst nur die
über der intermetallischen Phase verbleibende Reinzinnschicht
Folgende Kernaussagen leiten sich daraus ab:
Basierend auf den Untersuchungsergebnissen ist die smarttin® - Schicht eine
sehr robuste und strapazierfähige Lötoberfläche.
Selbst bei niedrigen Zinnschichtdicken von 0,8µm (cpk = 1,333) und einer
Echtzeitlagerung von 12 Monaten hält smarttin® zwei Reflow- und einen
Schwalllöttest stand.
Es lässt sich nachweislich mit dem smarttin® - Refreshprozess eine bereits �tote“
chemisch Zinn – Schicht wieder in einen lötfreudigen Zustand überführen.
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