Feldeffekttransistoren

Werbung
Feldeffekttransistoren
Vortrag im Rahmen des Seminars
Halbleiterbauelemente
Von Thomas Strauß
Gliederung








Unterschiede FET zu normalen Transistoren
FET – Anwendungsgebiete und Vorteile
Die Feldeffekttransistorenfamilie
JFET – Junction Field Effect Transistor
MESFET – Metall Semiconductor Field Effect Transistor
MOSFET – Metall Oxid Semiconductor Field Effect Transistor
Zusammenfassung
Quellen: Sze (Physic of Semiconductor Devices), Kassing (Physiklaische Grundlagen der Halbleiter
Bauelemente), Müller (VL im Elektronikpraktikum), http://www.intel.de
Unterschiede zu anderen Transistoren
FET

Ausbildung eines leitfähigen Kanals
zwischen Source und Drain
Normale Transistoren

Basis-Emitter-Übergang in Fluss-,
Kollektor-Emitter-Übergang in
Sperrrichtung

Injektion von Ladungsträgern am
Basis-Emitter-Übergang, Majoritätsund Minoritätsladungsträger
Inversionsschicht

Nur ein Ladungsträgertyp beteiligt
Unipolarer Stromfluss

Spannung am elektrisch isolierten
Gate steuert Leitfähigkeit des
Kanals
Spannungsgesteuertes Bauteil
Bipolarer Stromfluss

Kleiner Basisstrom steuert
größeren Kollektorstrom
Stromgesteuertes Bauteil
viel
FET
Anwendungsgebiete
Analoge Schaltung
 Verstärkung von Signalen mit hohen
Eingangsimpedanzen
 Mikrowellenverstärkung
 Integrierte Schaltkreise

FET
Vorteile
Temperaturkoeffizient negativ
 Einheitliche Temperaturabhängigkeit
 Kein Problem mit Speichereffekten
 Zusammenschaltungen klein

Die Feldeffekttransistorenfamilie
Feldeffekttransistor
JFET
MESFET
MOSFET
JFET – Junction Field Effect Transistor

Theorie 1952 Shockley
erstmals gebaut von
Dacey und Ross

Sperrschichttransistor

VG kontrolliert ISD

VSD entgegengesetzt zu
VG geschaltet
n - channel JFET
JFET
long channel FET (L»a)

Ladungsverteilung gleichförmig

Poisson-Gleichung


d ²V dE y qN D


dy ²
dy
S
Abschnürstrom-/ Spannung
I P  Zµq ² N D2 a ³ / 6 S L
VP  V ( y2  a)  qN D a ² / 2 S

Stromfluss


I SDS

I SD  I P 3VD VP  2 VD  VG  Vbi   VG  Vbi 
32
32
V 
32
P
Sättigungsstrom-/ Spannung
32

 VG  Vbi   VG  Vbi  VSD  
  2
 
 I P 1  3
V
V

P
P

 
 
VSDS  VP  VG  Vbi 
qN D a ²
kT  N D Na 

 VG 
ln 
2 S
q  ni2 
JFET
Kennlinien

3 Regionen

Lineare Region
ISD ~ VSD

Sättigungsbereich
ISD ~ const

Durchbruchszone
ISD rasch ansteigend
Leitfähigkeit des Kanals in x-Richtung
gD 
I SD 2 ZµaN D

(a  y2 )
VSD
L
JFET
Berücksichtigen einer komplexen
Ladungsverteilung

Keine großartigen
Effekte bemerkbar

Verteilung relativ egal
JFET
Berücksichtigen von µ bei (L«a) in Si




Bei kurzen/dicken FET
Beweglichkeit spielt eine Rolle
I‘SD = ISD / (1+ ( µVD / vSL))
I‘SDS = 3 IP (1 – um) / z
JFET
Berücksichtigen von µ bei (L«a) in Si

Bei GaAs ist verhalten
noch komplizierter,

2-Regionen-Modell
JFET
Realisierungen - Betriebsmöglichkeiten

Normally on – bei VG=0 fließt bereits ein Strom

Normally off – bei VG=0 fließt kein Strom
JFET
Realisierungen - Bauweisen
MESFET –
Metall Semiconductor Field Effect Transistor

Vorhergesagt von Mead 1966
Gebaut von Hooper und Lehrer

Ist im Prinzip genau das gleiche wie ein JFET, nur mit
gleichrichtendem Metall-Halbleiterkontakt

Hat aber Vorteile wie:
 Ausbildung der Barriere schon bei geringen Temperaturen
 Kleiner Widerstand entlang des Kanals
 Gute Wärmeableitung

Nachteile
 JFET kann so gebaut werden, dass er für Hochfrequenz besser
anwendbar ist
MESFET
Realisierungen
MOSFET – Metall Oxid Semiconductor
Field Effect Transistor

UG bewirkt Inversion

Kein Stromfluss über
Gate möglich

Ladungsabsaugung
durch USD

Strom ISD~ εOXEOXUSD
MOSFET
Inversionsschicht
MOSFET
Bandstrukturen
MOSFET
Theoretische Kennlinie

Ausgangsleitwert
Ga= Z/L µ COX (UG – Uth-USD)

Sättigungsspannung
USDS = UG - Uth

Steilheit
S = Z/L µ COX USD
S*=S/(ZL)=COX / T
MOSFET
Theoretische Kennlinie



Kanalabschnürung
Im Bereich l alte Betrachtung gültig
Im zweiten Teil zweidimensionaler Feldverlauf
MOSFET
Theoretische Kennlinie

Bisher hieß es:

Kurze Kanallängen sind
ungünstig

Wie kommen wir zu
kleinen Bauteilen ???

Skalierung !!!
MOSFET
Moore‘sches Gesetz

Gordon E. Moore 1965
Direktor bei „Fairchild
Semiconductor“
MOSFET
Bauteile - Realisierungen
VMOS
HEXFET
intgr. CMOS
UMOS
MOSFET
Bauteile - Speicherchip
„0“
„1“
Schreiben
Entladung
Löschen
MOSFET
Bauteile – MOS Schaltkreise
Zusammenfassung

FET sind Spannungsgesteuerte Bauelemente

FET sind unipolar

FET können verschieden realisiert werden

FET Kennlinien unterscheiden sich vom
Prinzip nicht, nur die Fixpunkte ändern sich
Herunterladen