Kein Folientitel - Physik am Samstag

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TECHNISCHE UNIVERSITÄT
DRESDEN
FORSCHUNGSZENTRUM
ROSSENDORF
Prof. Dr. Wolfhard Möller
Billard mit Atomen:
Physik mit schnellen Ionen
anschließend:
Mill-Ionen-Preisspiel
!
!
PHYSIK AM SAMSTAG
9. Dezember 2000
samstag.physik.tu-dresden.de
!
Was sind Ionen ?
+
-
Atom
.
-
!
Anzahl der Protonen
= Ordnungszahl
+
1,5...20 fm
+
x 30 000
1 Pikometer (pm) = 10-12 m
1 Femtometer (fm) = 10-15 m
50...300 pm
-
ElektronenAnlagerung -
-
-
Geladene
Atome
-
+++
!
+++
!
Ionisierung
-
Positives
Ion
- Negatives
-
+++
Ion
Spezielle Ionen:
-
+
Negatives
WasserstoffIon (H-)
Positives
+ WasserstoffIon = Proton
(H+; p)
!
+
+
!
Zweifach positives
Helium-Ion
= a-Teilchen
(He2+; a)
!
!
Wie erzeugt man Ionen ?
Stoß mit schnellem Elektron
-
++
+
-
e-
++
+
-
-
e-
-
-
-
Gasentladungs-Plasma
Elektrische
Leistung
e-
!
!
+
+
Verdünntes
Gas
(Vakuum ca.
10-3 mbar)
+
+
+
+
+
+
> 10 000 oC
+
(z.B.
Mikrowelle)
Temperatur der
Elektronen:
+
fest
flüssig
gasförmig
+
Plasma: Der vierte Aggregatzustand der Materie
Plasma
Wie beschleunigt man Ionen ?
d
Vakuum
< 10-3 mbar
Ionenquelle
Target
U
+
-
Spannungsversorgung
Elektrisches
Feld
!
Kraft im
Elektrisches Feld
Kinetische
Endenergie
!
E
U
d
F  q E  ma
E kin 
m 2
  q U
2
q: Ionenladung
a: Beschleunigung
m: Ionenmasse
v: Geschwindigkeit
Beispiel: 1-fach geladenes Ion:
q = e = 1,6·10-19 As (Elementarladung); U = 1,5 V
Ekin = 2,4·10-19 Ws = 1,5 eV
Ein Ion erhält eine Energie von 1 eV,
wenn es eine Spannung von 1 V durchläuft
IonenGeschwindigkeit

2  q U
m
Beispiel: Proton (H+):
Ekin = 1 eV entspricht v = 13 km/s
Wie bringt man Ionen ans Ziel ?
Ablenkung im elektrischen Feld (Zylinderkondensator)
Fzentr
+
V
+
-
s
-
Felektr
r
-
Gleichgewicht
der Kräfte
m 2
qV

 Felektr 
r
s
Fzentr
Krümmungsradius
r
2 E kin s

q V
Ablenkung im magnetischen Feld
Fzentr
N
B
Fmagn
S
Gleichgewicht
der Kräfte
Krümmungsradius
r
Fzentr
m 2

 Fmagn  qB
r
r
2 mE kin 1

q
B
Ionen-Implantationsanlage (“Implanter”)
( ~ 20 ... 500 keV )
FORSCHUNGSZENTRUM ROSSENDORF
Institut für Ionenstrahlphysik und Materialforschung
Elektrostatischer “Tandem”-Beschleuniger
InjektorMagnet
Quelle für
negative Ionen
Hochspannungselektrode
mit Umladungseinrichtung
Ubeschl
Ionenenergie
AnalysierMagnet
E  eU beschl  qeU beschl
 q  1 eU beschl
q Ionenladung
FORSCHUNGSZENTRUM ROSSENDORF
Institut für Ionenstrahlphysik und Materialforschung
Ionenbeschuß von Festkörpern
Kristallstruktur 3D (z.B. Nickel)
ca. 0,25 nm
Schnitt 2D (2D-Modell)
+
Oberfläche
Atomrümpfe
Bindungselektronen
(“Elektronengas”)
Ionen-Oberflächen-Wechselwirkung
Ionenbahn im Festkörper: Folge von Zweierstößen
mit den Atomrümpfen
(falls Ekin > 10 eV)
!
!
Reichweite
Abbremszeit:
ca. 0,1 ps = 10-13 s
+
Tel
Zwei Mechanismen des
Energieverlustes:
Elastische Stöße mit
den Atomrümpfen
(Energieübertrag Tel)
!
“Reibung” an den
Elektronen
(Energieverlust DEinel)
Keine Richtungsänderung !
!
!
DEinel
!
Tel
Ionen-Bremsung und -Reichweite
Bremsung (keV/nm)
10
Ge+
Si
5
Total
Elektronen
Atomrümpfe
0
1
102
104
106
Energy (keV)
Reichweite (nm)
100000
10000
Si+
1000
SiO2
100
Ge+
SiO2
10
1
1
10
102
103
104
105
Energy (keV)
! Reichweite (nm)  Energy (keV) !
!
!
Billard - Modellversuch
+
d
Idealisierung:
Kraft zwischen zwei Atomen
(oder zwischen Ion und Atom)
2r
Wechselwirkungs - Kraft
Billard-Modell
Harte Kugeln
0
Reale Atome
Abstoßung der
Atomkerne
Ruhelage
0
0
2r
Abstand d
Wechselwirkungs-Kraft
Computer-Simulation von Ionenbahnen
!
!
Abstoßung der
Atomkerne
Zweierstoß-Näherung
0
0
Abstand
Reale Atome
Reichweite
+
Viele Ionenbahnen nacheinander mit
verschiedenen Stoßvorgängen (“MonteCarlo-Simulation”)
Statistische Auswertung
Computer-Simulation von Ionenbahnen
Stickstoff-Ionen
eingeschossen
in Eisen
Energie: 1 MeV
Einschuß
Oberfläche
+
0
0.2
0.4
0.6
Tiefe (mm)
0.8
1
Mikroelektronik in Dresden
Ionen zur Halbleiter-Aktivierung
p-type substrate with a thin epitaxial layer
Isolation-trench etch and channel-stop implants
Gate oxidation, gate poly deposition, and gate poly etch
Sidewall spacer formation
Salicidation
Contact hole etch, contact hole fill, metal1
deposition, and metal1 etch
!
!
N-well and p-well high-energy implants and anneal
Trench fill, etch-back, and threshold adjust implants
Shallow source/drain extension implants and tilted
halo implants
Deep source/drain implants
First intermetal oxide deposition
Strahlenschäden durch
atomare Stöße
!
0,01...10 mm
Dauer einer Stoßkaskade: etwa 10-13 s
!
Ionen - Channeling
Blick in Kristallrichtung
!
Kristall rotiert
+
Größere Reichweite
Weniger Strahlenschäden
(da nur schwache Stöße mit
kleinen Winkelablenkungen)
!
Ionenzerstäubung (Sputtern)
!
Oberflächenatom
erhält aus der
Stoßkaskade genügend
Energie, um zu
“verdampfen”, d.h.
Bindungsenergie an
der Oberfläche zu
überwinden
ZerstäubungsAusbeute
Nz: Anzahl der zerstäubten Atome
Nz
Ni
Yz 
Ni: Anzahl der einfallenden Ionen
Zerstäubungsausbeute
1,5
1
0,5
0
0,01
0,1
1
10
100
Ionenenergie (keV)
1000
!
Molekulardynamische Computer-Simulation
Realistische Kräfte zwischen Atomen und Ionen
N Gitteratome
Simultane Lösung der Newton’schen
Bewegungsgleichung für alle Teilchen (i=1...N+1)


mi  xi  Fi 

F
 ij
Nachbar
atome j
Fij: Kraft, mit der das
Nachbarato
m j auf das Atom i wirkt
Lösung in Zeitschritten: ca. 0,1 fs = 10-16 s
Auch für sehr kleine Energien (<< 1 eV) anwendbar
Thermische Schwingungen können berücksichtigt
werden (Ekin 25 meV bei Raumtemperatur)
Molekulardynamische Computer-Simulation
der Ionenzerstäubung
Ein Argon-Ion
eingeschossen in einen
Kupferkristall bei
tiefer Temperatur
(100 Kelvin)
+
Energie 1 keV
Einschußrichtung
Zerstäubte
Kupferatome
Bild zur Zeit 0,36 ps nach Ioneneinschlag
Farbskala: Temperatur der Atome dividiert
durch die Schmelztemperatur von Kupfer
ca. Schmelztemperatur (1357 Kelvin)
oberhalbSchmelztemperatur
Zerstäubung (Sputtern) für
Beschichtungsprozesse
!
“Magnetron”Sputtern
~
S
Ionen
Hochfrequenz
N
+
S
+
Magnet
Target
Plasma
Targetatome
Beschichtung
Substrat (z.B.Flachglas)
!
Das Preisspiel
... um 11.30 hier
Spaß für alle
Wertvolle Preise (für wenige)
Man kann noch etwas lernen
PHYSIK AM SAMSTAG
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Ein Dankeschön
...an alle Beteiligten
W. Keller (Organisation)
T.Mahler, F.Radtke (Hörsaal)
D.Kost, H.Tyrroff (Billard)
A.Kolitsch, C.Neelmeijer (Mill-Ionen-Spiel)
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