Strukturuntersuchungen an elektronischen Schichten David Rafaja Institut für Metallkunde TU Bergakademie Freiberg Themen SrTiO3 – ferroelektrische gesinterte Keramik BaxSr1-xTiO3 – MOCVD ferroelektrische Schichten auf Al2O3 Substraten SrTiO3/BaTiO3 – ferroelektrische Multilagenschichten auf Al2O3 Substraten ZnO:Al – Halbleiterschichten auf Al2O3 Substraten 2 Perowskit-Struktur von SrTiO3 und BaTiO3 b o a SrTiO3: kubisch, Pm3m, a = 3.9059 Å SrTiO2.6: tetragonal, P4/mmm, a = 3.917 Å, c = 3.889 Å PbTiO3: tetragonal, P4mm, a = 3.904 Å, c = 4.152 Å BaTiO3: tetragonal, P4mm, a = 3.9945 Å, c = 4.0335 Å c 3 Beugungsgeometrien für Dünnschichtanalysen mittels Röntgenbeugung Symmetrische Beugungsgeometrie (XRR, XRD) Beugung unter streifendem Einfall (GAXRD) qz qz qy qy qx qx 4 Beugungsgeometrien für Dünnschichtanalysen mittels Röntgenbeugung Vierkreisdiffraktometer qz qy qx 2 5 Eindringtiefe der Röntgenstrahlung beim streifendem Einfall (GAXRD) SrTiO3 t: sin i sin o dI 1 I 0 ; xe dz e sin i sin o 6 SrTiO3 – Polykristalline „Keramik“ 1000 3.906 800 Lattice parameter (Å) Intensity (a.u.) 3.905 600 400 200 0 20 3.904 3.903 3.902 40 60 80 100 o Angle ( 2 ) Beugungsbild 120 140 3.901 0.0 0.2 0.4 0.6 0.8 2 sin Bestimmung des spannungsfreien Gitterparameters und der Eigenspannung 7 SrTiO3 – Polykristalline „Keramik“ 300 3.906 200 lattice param eter 150 3.904 100 50 3.903 0 0 1 2 3 4 Penetration depth ( m) 5 6 Residual stress (MPa) Lattice parameter (Å) Stress-free 3.905 250 Residual stress SrTiO3: kubisch, Pm3m, a = 3.9059 Å SrTiO2.6: tetragonal, P4/mmm, a = 3.917 Å, c = 3.889 Å; Mittelwert a = 3.903 Å Bei der Oberfläche nimmt der eigenspannungsfreie Gitterparameter ab „Unterstöchiometrie“ im Sauerstoffgehalt nimmt die Druckspannung zu Konsequenz der Abnahme des Gitterparameters und der Wechselwirkung zwischen benachbarten Kristalliten 8 SrTiO3 – Polykristalline „Keramik“ Ausbildung einer Druckspannung bei der Oberfläche Abnahme des spannungsfreien Gitterparameters Zunahme der Eigenspannung 9 SrTiO3 Keramik bei tiefen Temperaturen Tieftemperaturmessung: • Sprungartige Änderung des Gitterparameters bei T < 90K • Anstieg der Linienbreite bei T < 90K (tetragonale Gitterverzerrung, Phasenübergang) SrTiO 3 0.210 3.9005 0.200 o 3.8995 3.906 3.8990 3.904 SrTiO 3 0.205 3.9000 3.908 FW HM (321), [ 2 ] Lattice param eter (10 -10 m) 3.910 3.8985 0 20 40 60 80 100 3.902 0.195 0.190 0.185 0.180 0.175 3.900 0.170 3.898 0 50 100 150 200 250 Temperature (K) 300 350 400 0 50 100 150 200 250 300 350 400 Temperature (K) 10 Heteroepitaxie: SrTiO3 auf Saphir (Al2O3) BaxSr1-xTiO3 Al2O3, (001)-orientiert MOCVD (injection metal-organic CVD) bei 800°C, 5 Torr SrTiO3, Ba0.1Sr0.9TiO3, BaTiO3 Nach der Beschichtung wurden die Schichten 30 min im Sauerstoff nachgeglüht Ausgleich des Sauerstoffgehaltes 11 Intensity (a.u.) Eine starke Vorzugsorientierung (111) der Ba1-xSrxTiO3 Schichten 10 4 10 3 10 2 10 1 10 0 Symmetrische Röntgenbeugung Textur (111) in (Ba,Sr)TiO3 || (001) in Al2O3 -8 -4 0 4 8 Kleine Kippung der Vorzugsrichtung von der Oberflächennormale Sam ple inclination (deg) 12 Zugängliche Netzebenen (im Reflexionsmodus) (001) SrTiO3 Al2O3 (111) (211) (111) (006) (108) Beugungswinkel (108): 61.3 Winkel zwischen (006) und (108): 21.5 Beugungswinkel (211): 57.3 Winkel zwischen (111) und (211): 19.5 13 Reciprocal space mapping SrTiO3 auf Saphir 6000 Al2O3 (018) SrTiO3 (211) 4000 n Beugungsebene q(y) (a.u.) 2000 a 0 -2000 i o Sample -4000 -6000 -6000 -4000 -2000 0 2000 4000 6000 q(x) (a.u.) 14 SrTiO3 auf Al2O3 Atomare Anordnung im direkten Raum Q-Scan 121 211 q(y) 121 _ 118 018 211 _ 108 112 Sr 900 800 700 600 500 400 300 200 100 Ti 112 O in Al2O3 b O in SrTiO3 Al P o wd erC el l 1 .0 c q(x) a c b a P o wd erC el l 1 .0 Zwei Kristallitgruppen – gedreht um 60° 15 BaxSr1-xTiO3 auf Al2O3 20.2 3 211 68 2 SrTiO3 332 211 018 Ba0.1Sr0.9TiO3 211 332 67 -1 0 1 2 3 q(x) (1/Å) BaTiO3 -1.4 -1.6 -1.8 -1.6 q(x) (1/Å) _ 332 (c 66.5 65.5 -2 (b -62 -61.5 -61 -60.5 -60 -59.5 -59 211 Linienverbreiterung im q-Scan Defektstruktur Gitterfehlanpassung (Abhängigkeit von der Zusammensetzung) (deg) q(y) (1/Å) 332 211 -1.2 -1.8 -2.2 67.5 018 332 -2 _ 332 -62 -61.5 -61 -60.5 -60 -59.5 -59 111 -1 q(y) (1/Å) 332 0 -3 -3 0.5 211 332 -2 0 67 1 -1 018 (a 111 19.8 -0.5 _ 332 65 64.5 (d) 64 63.5 63 -62 -61.5 -61 -60.5 -60 -59.5 -59 Sample inclination, (deg) 16 BaxSr1-xTiO3 auf Al2O3 Atomic Force Microscopy Pyramidale Kristallite mit zwei unterschiedlichen lateralen Orientierungen 111 _ 110 111 _ 110 17 Heteroepitaxie: ZnO:Al auf Saphir (Al2O3) ZnO: 2 wt.% Al, (001)-orientiert Hexagonal, a = 3.2498 Å, c = 5.2066 Å Al2O3, (001)-orientiert Hexagonal, a = 4.7588 Å, c = 12.992 Å RF Magnetron-Beschichtung (PVD, 13.56 MHz) 310 K und 900 K, 10–5 Pa (Ar) ZnO mit 2 wt.% Al Wachstumsgeschwindigkeit: 10 nm/min Halbleiter mit breitem Gap (Eg = 3.2 eV) Transparente Elektroden für Dünnschicht-Solarzellen Blaue Laser und Leuchtdioden 18 ZnO:Al auf Saphir (Al2O3), T = 310 K 19 ZnO:Al auf Saphir (Al2O3), T = 310 K 0,4 (100) Al2O3 0,3 0,2 0,1 0 -0,4 -0,2 0 0,2 -0,1 0,4 (100) ZnO -0,2 -0,3 -0,4 Stereographische Projektion Atomare Anordnung an der Grenzfläche Al2O3/ZnO 20 ZnO:Al auf Saphir (Al2O3), T = 310 K Unterschied der Gitterparameter 12.6 % Eigenspannung 1. Art und plastische Verzerrung Eigenspannung 2. Art = -2.06 0.08 GPa Relative deform ation (%) 0,6 0,4 0,2 0 0 0,2 0,4 0,6 0,8 1 -0,2 -0,4 -0,6 sin²psi 21 ZnO:Al auf Saphir (Al2O3), T = 310 K Unterschiedliche Gitterparameter (Substrat – Schicht) kleine laterale Kristallitgröße ZnO:Al Schicht auf (001) Saphir. Kleines Bild: SAED Bild (selected area electron diffraction) entlang der [0-20] Zone. Diameter des Primärstrahles ca. 150 nm. 100 nm 22 ZnO:Al auf Saphir (Al2O3), T = 900 K 23 ZnO:Al auf Saphir (Al2O3), T = 900 K Zwei Gruppen von ZnO Kristalliten mit unterschiedlicher Ausrichtung zum Al2O3 Substrat 24 ZnO:Al auf Saphir (Al2O3), T = 900 K Gitterfehlanpassung (lattice mismatch) Eigenspannungen 1. Art Relative deform ation (%) 0,6 0,4 0,2 0 0 0,2 0,4 0,6 0,8 1 -0,2 -0,4 -0,6 sin²psi Eigenspannungen 2. Art sind erholt 25 Heteroepitaxie: SrTiO3/BaTiO3 auf Saphir (Al2O3) Strukturmodell: SrTiO3 BaTiO3 15 x SrTiO3 BaTiO3 Dicke der einzelnen Schichten Elektronendichten Rauhigkeit und Morphologie der Grenzflächen Netzebenenabstände in einzelnen Schichten Kristallinität Rauhigkeit und Morphologie der Oberfläche Al2O3, (001)-orientiert 26 Röntgenreflexion im Kleinwinkelbereich Reflectivity 10 0 10 -1 10 -2 10 -3 10 -4 10 -5 10 -6 10 -7 XRR Kante der Totalreflexion Elektronendichte der Oberflächenschicht Abnahme der Intensität Rauhigkeit der Probenoberfläche Kiessig-Oszillationen Dicke der gesamten Multilagenschicht (Limit bei ca. 1500 Å), Rauhigkeit des Substrates 0 2 4 6 8 10 Bragg-Peaks Dicke einzelner Schichten in der Multilagenschicht, Elektronendichten, Grenzflächenrauhigkeiten o Glancing angle ( 2 ) 27 Röntgenbeugung im Weitwinkelbereich XRD 35 -3 30 -1 d 0 25 Intensity (a.u.) Bragg-Peaks von einzelnen Materialien in der Multilagenschicht Netzebenenabstände in einzelnen Schichten -2 -4 20 +1 Satellitenreflexen Dicke einzelner Schichten in der Multilagenschicht, Grenzflächenrauhigkeit, Grad der Kristallinität 15 10 +2 5 0 30 dB dA 32 34 36 38 40 42 44 46 48 50 o Diffraction angle ( 2 ) 28 BaTiO3/SrTiO3 (105Å/94Å)x15 RP035 - BaTiO3/SrTiO3 (105Å/94Å)x15 700 111 (Ba,Sr)TiO3 500 300 35.0 3 10 34 35.5 36.0 36 200 37.0 36.5 006 Al2O3 10 111 (Ba,Sr)TiO3 Intensity (a.u.) 400 4 006 Al2O3 600 5 10 38 40 42 44 o Angle ( 2) Oberflächenrauhigkeit: 10.8 Å Elektronendichte der Oberfläche: 0.87 (SrTiO3) d = 2.275 Å Keine scharfen Grenzflächen (XRR), kein Unterschied im Netzebenenabstand (XRR) eine starke Interdiffusion an Grenzflächen 29 BaTiO3/SrTiO3 (109Å/187Å)x15 RP039 - BaTiO 3 /SrTiO 3 (109Å/187Å)x15 Intensity (normalised) 1000 900 800 700 600 500 400 300 200 100 0 34.5 35.0 35.5 36.0 36.5 37.0 o Angle ( 2 ) Oberflächenrauhigkeit: 7.5 Å Elektronendichte der Oberfläche: 0.91 (SrTiO3) t (BaTiO3) = 122 Å; t (SrTiO3) = 193 Å = 315 Å Keine scharfen Grenzflächen (XRR), sichtbarer Unterschied in Netzebenenabständen (XRD) mäßige Interdiffusion 30 Danksagung Dr. J. Lindner, AIXTRON Aachen Dr. J. Petzelt und Dr. J. Kub, Physikalisches Institut der AdW Prag Dr. K. Ellmer, HMI Berlin 31